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NTIS 바로가기電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers, v.10 no.5, 1997년, pp.481 - 486
정귀상 (동서대학교 전자기계공학부) , 박진성 (동서대학교 전자공학과) , 최영규 (동서대학교 전자기계공학부)
This paper describes the anisotropic etching characteristics of Si in acqueous TMAH/IPA solutions. The etch rates of (100) oriented Si crystal planes decrease with increasing TMAH concentration and IPA concentration. Etchant concentration and etch temperature have a large effect on hillock density. ...
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