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NTIS 바로가기분석과학 = Analytical science & technology, v.11 no.4, 1998년, pp.311 - 315
허용우 (삼성전자) , 길준잉 (삼성전자) , 임흥빈 (단국대학교 이과대학 화학과)
Ultra trace metal impurities of high-purity sulfuric acid for semiconductor process have been determined in the concentration of lower than ppb (ng/g) level using high resolution inductively coupled plasma mass spectrometer (HR-ICP-MS).The acid samples were evaporated and concentrated by the factor ...
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