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NTIS 바로가기한국전자현미경학회지 = Korean journal of electron microscopy, v.29 no.3, 1999년, pp.265 - 274
조철호 (한양대학교 공과대학 재료공학과) , 정진구 (한양대학교 공과대학 재료공학과) , 김영호 (한양대학교 공과대학 재료공학과)
The microstructure of Cu thin films in various deposition conditions was characterized. Cr films (50 nm thick) and Cu films (500 or 1000 nm thick) were deposited on polyimide films by DC magnetron sputtering. The Ar pressure during Cu deposition was controlled to 5, 50 and 100 mtorr. The microstruct...
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