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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.13 no.11, 2000년, pp.901 - 907
김종선 (원광대학교 물리반도체학부) , 오용호 (원광대학교 물리반도체학부) , 임성우 (원광대학교 물리반도체학부) , 고춘수 (원광대학교 물리반도체학부) , 이재철 (원광대학교 물리반도체학부)
As the minimum feature size for making ULSI approaches the wavelength of light source in optical lithography, the aerial image is so hardly distorted because of the optical proximity effect that the accurate mask image reconstruction on wafer surface is almost impossible. We applied the Optical Prox...
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