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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.33 no.2, 2000년, pp.69 - 76
김경례 (단국대학교 자연과학부 응용물리전공) , 김용진 (단국대학교 자연과학부 응용물리전공) , 현준원 (단국대학교 자연과학부 응용물리전공) , 이기호 (단국대학교 자연과학부 응용물리전공) , 노승정 (단국대학교 자연과학부 응용물리전공) , 최병구 (단국대학교 사범학부 과학교육전공)
The rf plasma chemical vapor deposition is a common method employed for diamond or amorphous carbon deposition. Diamond possesses the strongest bonding, as exemplified by a number of unique properties-extraordinary hardness, high thermal conductivity, and a high melting tempera tore. Therefore, it i...
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