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한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.39 no.8 = no.243, 2002년, pp.807 - 811
이영태 (한양대학교 세라믹공학과) , 정용재 (한양대학교 세라믹공학과)
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In this work, we investigated the deposition behavior of Mo/Si multilayer thin film structures simulated by a PVD process simulator based on Monte Carlo method to assist the optimized fabrication of the high quality mask in EUVL(Extreme Ultra-Violet Lithography) process. The shape of simulated thin ...
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저자가 APC(Article Processing Charge)를 지불한 논문에 한하여 자유로운 이용이 가능한, hybrid 저널에 출판된 논문
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