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극자외선 노광공정용 Mo/Si 다층 박막 미러의 구조 분석
Structural Characterization of Mo-Si Multilayer Mirror for Extreme Ultraviolet Lithography 원문보기

한국마이크로전자및패키징학회 2001년도 추계 기술심포지움, 2001 Nov. 01, 2001년, pp.213 - 216  

허성민 (한양대학교 신소재공학부) ,  김형준 (한양대학교 신소재공학부) ,  이승윤 (한양대학교 신소재공학부) ,  윤종승 (한양대학교 신소재공학부) ,  강인용 (한양대학교 세라믹공학과) ,  정용재 (한양대학교 세라믹공학과) ,  안진호 (한양대학교 신소재공학부)

초록
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극자외선영역의 빛에대한 Mo/Si 반사형 다층 박막 미러를 스퍼터링 시스템으로 증착하여, 특성을 평가한 결과 3mTorr의 낮은 공정 압력에서 최적의 구조인자를 가진 다층 박막을 증착할 수 있었다. TEM, low angle XRD peak, 반사도 그래프로부터 다층 박막의 구조인자를 분석하였으며, 특히 low angle XRD peak로부터 다층박막의 d-spacing, 층간 두께 uniformity에 대한 정보 및 광학적 정보를 간접적으로 분석할 수 있었다. 최대 반사도는 12.7nm 파장에서 약 53%였으며, low angle XRD에서 추출한 d-spacing 값이 TEM 이미지에서 측정한 값보다 더 정확한 값을 얻을 수 있었다.

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