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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.37 no.3, 2004년, pp.164 - 168
유근철 (서울대학교 재료공학부) , 박보환 (서울대학교 재료공학부) , 주정훈 (군산대학교 재료공학부) , 이정중 (서울대학교 재료공학부)
Polycrystalline silicon thin films were deposited by inductively coupled plasma (ICP) assisted magnetron sputtering using a gas mixture of Ar and
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