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가설 설정
- 핫플레이트와 감지 전극을 지지하고 있는 질화규소막은 중요한 열전달 통로이므로 아무리 메모리가 많이 소요된다고 하여도 격자밀도를 높여서 격자를 배치하여야 하지만, 실리콘 베이스 위의 질화규소막은 전체 열전달에 큰 영향을 미치지 않는데도 많은 메모리를 차지하여야 하는 문제점이 있었다. 따라서 본 연구에서는 실리콘 베이스 위의 질화규소막을 무시하고 모두 실리콘 웨이퍼로 구성되어 있다고 가정하였다. Figure 2 (b)에 완성된 격자 구조를 나타내었고 Table 1 에 각 부분의 격자 개수를 나타내었다.
- 이다. 히터에서는 열이 균일하게 발생한다고 가정하였다.
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