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NTIS 바로가기반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.3 no.4, 2004년, pp.45 - 49
이명윤 (한양대학교 나노SOI공정연구실) , 강현구 (한양대학교 나노SOI공정연구실) , 박진형 (한양대학교 나노SOI공정연구실) , 박재근 (한양대학교 나노SOI공정연구실) , 백운규 (한양대학교 세라믹 공학과)
We examined large particles and filter size effects of Central Chemical Supplying (CCS) system for STI-CMP on Light Point Defects (LPDs) after polishing. As manufacturing process recently gets thinner below 0.1 um line width, it is very important to keep down post-CMP micro-scratch and LPDs in case ...
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