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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.14 no.2, 2004년, pp.90 - 93
이원준 (세종대학교 신소재공학과) , 이주현 (한국과학기술원 재료공학과) , 한창희 (한밭대학교 재료공학과) , 김운중 (세종대학교 신소재공학과) , 이연승 (한밭대학교 정보통신컴퓨터공학과) , 나사균 (한밭대학교 재료공학과)
Silicon dioxide thin films were deposited on p-type Si (100) substrates by atomic layer deposition (ALD) method using alternating exposures of
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