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Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구
An Ellipsometry Study of Water Absorption in the 193 nm photoresist 원문보기

반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.5 no.2 = no.15, 2006년, pp.37 - 39  

이형주 (한양대학교 응용물리학과) ,  이정환 (한양대학교 응용물리학과) ,  서주빈 (한양대학교 응용물리학과) ,  경재선 (한양대학교 응용물리학과) ,  안일신 (한양대학교 응용물리학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We employed in-situ spectroscopic ellipsometry(SE) and imaging ellipsometry(IE) to study the interaction of water and photoresist(PR) in 193 immersion lithography. Real time measurement of SE showed thickness increase when PR was immerged in water indicating swelling effect. From the temporal evolut...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 따라서, 본 연구에서는 물의 흡수로 인하여 PR이 swelling 되는 것이 두께 변화를 야기시킬 가능성에 착안하여 물과의 접촉 시간에 따른 두께 변화를 분광 타원 해석기를 이용하여 측정하였다. 또한 PR이 물과 반응하는지 여부를 조사하기 위하여 최근 개발된 imaging ellipsometer를 이용하여 표면을 관찰하였다.
  • 따라서 이 경우 최근 새로 개발된 imaging 타원 해석기를 적용해 볼 가치가 있다. 즉, PR 시편의 절반쯤을 물에 담근 뒤 물과 접촉한 표면과 접촉하지 않은 표면의 차이 여부를 측정하는 것이다. 이 경우 절대값이 아니라 상대적 변화 여부를 측정하는 것이고, 또한 imaging 타원해석기가 두 영역을 동시에 측정하는 것이므로 상대적인 차이가 있을 경우 쉽게 그 차이를 관찰할 수가 있게 된다.
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