최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.5 no.2 = no.15, 2006년, pp.37 - 39
이형주 (한양대학교 응용물리학과) , 이정환 (한양대학교 응용물리학과) , 서주빈 (한양대학교 응용물리학과) , 경재선 (한양대학교 응용물리학과) , 안일신 (한양대학교 응용물리학과)
We employed in-situ spectroscopic ellipsometry(SE) and imaging ellipsometry(IE) to study the interaction of water and photoresist(PR) in 193 immersion lithography. Real time measurement of SE showed thickness increase when PR was immerged in water indicating swelling effect. From the temporal evolut...
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.