• 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"
쳇봇 이모티콘
ScienceON 챗봇입니다.
궁금한 것은 저에게 물어봐주세요.

논문 상세정보


Chemical-mechanical polishing (CMP), one of the dominant technology for ULSI planarization, is used to flatten the micro electro-mechanical systems (MEMS) structures. The objective of this paper is to achieve good planarization of the deposited film and to improve deposition efficiency of subsequent layer structures by using surface-micromachining process in MEMS technology. Planarization characteristic of poly-Si film deposited on thin oxide layer with MEMS structures is evaluated with different slurries. Patterns used for this research have shapes of square, density, line, hole, pillar, and micro engine part. Advantages of CMP process for MEMS structures are observed respectively by using the test patterns with structures larger than 1 urn line width. Preliminary tests for material selectivity of poly-Si and oxide are conducted with two types of silica slurries: $ILD1300^{TM}\;and\;Nalco2371^{TM}$. And then, the experiments were conducted based on the pretest. A selectivity and pH adjustment of slurry affected largely step heights of MEMS structures. These results would be anticipated as an important bridge stone to manufacture MEMS CMP slurry.


#CMP   #ULSI   #MEMS  

참고문헌 (6)

  1. D. L. Hetherington and J. J. Sniegowski, 'Improved polysilicon surface-micromachined micromirror devices using chemical-mechanical polishing', Presented at the International Symposium on Optical Science, Engineering, and Instrumentation, SPIE's 43rd Annual Meeting, San Diego, CA, p. 58, 1998 
  2. Sadiku, M., 'MEMS', Potentials, IEEE, Vol. 21, Iss. 1, p. 4, 2002 
  3. K. E. Petersen, 'Silicon as a mechanical material', member IEEE, Vol. 70, No.5, p. 420, 1982 
  4. SKW Associates, Inc. Characterization Products of Chemical Mechanical Polishing, SKW Associates. Last Updated: February 28, 2000 
  5. F. Ayazi and K. Najafi, 'Design and fabrication of a high-performance polysilicon vibrating ring gyroscope', Micro Electro Mechanical Systems, 1998. MEMS 98. Proceedings., The Eleventh Annual International Workshop, p. 25, 1998 
  6. G. Zwicker, 'MEMS fabrication using CMP', Presentation at the 10th CMP users Meeting, Munich, www.isit.fhg.de, p. 21, 2003 

이 논문을 인용한 문헌 (0)

  1. 이 논문을 인용한 문헌 없음


원문 PDF 다운로드

  • ScienceON :

원문 URL 링크

원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다. (원문복사서비스 안내 바로 가기)

상세조회 0건 원문조회 0건

DOI 인용 스타일