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비정질 Ge1Se1Te2 과 Ge2Sb2Te5 칼코게나이드 박막의 상변화특성
Phase Change Properties of Amorphous Ge1Se1Te2 and Ge2Sb2Te5 Chalcogenide Thin Films 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.19 no.10, 2006년, pp.918 - 922  

정홍배 (광운대학교 전자재료공학과) ,  조원주 (광운대학교 전자재료공학과) ,  구상모 (광운대학교 전자재료공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Chalcogenide Phase change memory has the high performance necessary for next-generation memory, because it is a nonvolatile memory with high programming speed, low programming voltage, high sensing margin, low power consumption and long cycle duration. To minimize the power consumption and the progr...

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문제 정의

  • 본 논문에서는 비정질 칼코게나이드 박막을 제 작, 이용하여 온도 및 전도도 특성, 전기적 펄스 인가 시 상변화에 따른 저항변화에 어떠한 영향을 미치는지에 대해 실험해보았다. 실험결과 DSC 분석을 통한 결정화 온도 또한 온도에 따른 저항변 화와 상전이온도를 구하기 위한 온도에 따른 전도 도 특성에서 기존의 Ge2Sb2Te5 물질보다 GeiSeiTe2 물질이 훨씬 개선된 특성을 나타내었다.
  • 본 연구에서는 기존의 Ovonic 사에 의해 특허가 걸려있는 Ge-Sb-Te계의 Ge2Sb2Te5 물질에서 나타나는 특허권문제와 상변화특성상 나타나는 문제 점들을 해결하기 위하여 새로운 조성형태의 Ge-Se-Te 계의 상변화 재료 중 GeiSeiTe2 조성의 물질을 개발하여 시편을 제작하고 기본적인 특성 인 물리적, 열적 그리고 전기적 특성을 현재 PRAM 재료로 이용되고 있는 Ge-Sb-Te 계의 Ge2Sb2Te5 물질과 비교하므로서 상변화 메모리 매 질로서의 가능성을 알아보고자 한다.
  • 본 연구에서는 앞서 설명한 특허권문제와 상변 화특성상 나타나는 문제점을 해결하기 위해 Ge- Se-Te 계의 상변화 재료 중 새로운 GeiSeiTe2 조 성의 물질과 기존의 Ge2Sb2Te5의 삼원계 물질을 선택하였다. 최근 PRAM 재료로서 가장 많이 사용 하고 있는 Ge2Sb2Te5 조성비의 박막은 본 연구실 에서 개발하고 있는 새로운 조성의 GeiSeiTe2 물 질박막과 기본적인 특성을 비교하기 위하여 선택 하였다〔7, 10].
  • 본 연구에서는 앞서 설명한 특허권문제와 상변 화특성상 나타나는 문제점을 해결하기 위해 Ge- Se-Te 계의 상변화 재료 중 새로운 GeiSeiTe2 조 성의 물질과 기존의 Ge2Sb2Te5의 삼원계 물질을 선택하였다. 최근 PRAM 재료로서 가장 많이 사용 하고 있는 Ge2Sb2Te5 조성비의 박막은 본 연구실 에서 개발하고 있는 새로운 조성의 GeiSeiTe2 물 질박막과 기본적인 특성을 비교하기 위하여 선택 하였다〔7, 10].
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참고문헌 (11)

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  2. S. R. Ovshinsky, 'Reversible electrical switching phenomena in disordered structures', Phys. Rev. Letters, Vol. 21, p. 1450, 1968 

  3. S. J. Yang, J. M. Lee, K. Shin, and H. B. Chung, 'The phase transition with electric field in ternary chalcogenide thin films', Trans. EEM, Vol. 5, No.5, p. 185, 2004 

  4. N. Yamada, E. Ohno, K. Nishiuchi, N. Akahira, and M. Takao, 'Rapid-phase transitions of $GeTe-Sb_2Te_3$ pseudo-binary amorphous thin films for an optical disk memory', J. Appl, Phys., Vol 69, No.5, p. 2849, 1991 

  5. J. H. Yi, Y. H. Ha, J. H. Park, B. J. Kuh, H. Horii, Y. T. Kim, S. O. Park, Y. N. Hwang, S. H. Lee, S. J. Ahn, S. Y. Lee, J. S. Hong, K. H. Lee, N. I. Lee, H. K. Kang, U. I. Chung, and J. T. Moon, 'Novel cell structure of PRAM with thin metal layer inserted GeSbTe', IEDM Tech. Dig., p. 901, 2003 

  6. K. Nakayama, K. Kojima, F. Hayakawa, and Y. Imai, 'Subrmicron nonvolatile memory cell based on reversible phase transition in chalcogenide glasses', Jpn, J. Appl. Phys., Vol 39, p. 6157, 2000 

  7. J. M. Lee, K. Shin, C. H. Yeo, and H. B. Chung, 'Electrical switching studies of amorphous $Ge_1Se_1Te_2$ thin film for a high-performance nonvolatile phase-change memory', Jpn. J. Appl. Phys., Vol 45, No. 6B, p. 5467, 2006 

  8. J. M. Lee S. J. Yang, K. Shin, and H. B. Chung, 'The study on the characteristic of phase transition in difference thickness of $Se_1Sb_2Te thin film', Trans. EEM, Vol 5, No.6, p. 241, 2004 

  9. H. Tanaka, T. Nishihara, T. Ohisuka, K. Morimoto, N. Yamada, and K. Morita, 'Electrical switching phenomena in a phase change material in contact with metallic nanowires', Jpn. J. Appl, Phys., Vol 41, p. L1443, 2002 

  10. J. M. Lee and H. B. Chung, 'Characteristics of chalcogenide $Ge_1Se_1Te_2$ thin film for nonvolatile phase change memory device', Trans. KIEE, Vol 55C, No.6, p. 297, 2006 

  11. N. Afify, A Gaber, I. Abdalla, and H. Talaat, 'Structural study of chalcogenide glasee $Se_{0.7}Te_{0.3}$ ', Physica B, Vol 229, p. 167, 1997 

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