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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.20 no.4, 2007년, pp.352 - 356
이붕주 (인하대학교 전기공학과 기능성박막연구실)
The Ni/Cr/Al/Cu (51/41/4/4 wt%) thin films were deposited by using DC magnetron sputtering method for the application of the resistors having low TCR (temperature coefficients of resistance) and high resistivity from the former printed-results[3]. The TCR values measured on the as-deposited thin fil...
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M. Kotai et. al., 'Segregation phenomena in thin film NiCr layers', Vacuum, Vol. 33(1/2), p. 49, 1983
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