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[국내논문] 저기포성 실리콘 계면활성제의 합성
Synthesis of Silicone Surfactant for Antifoamer 원문보기

한국유화학회지 = Journal of oil & applied science, v.25 no.2 = no.71, 2008년, pp.115 - 122  

정노희 (충북대학교 공과대학 화학공학부 공업화학) ,  손현구 (충북대학교 공과대학 화학공학부 공업화학)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The hydrosilylation is an addition reaction of Si-H bond to unsaturated double bonds, which provides a convenient mechanism to synthesize poly(dimethylsiloxane-co-methylsiloxane)copolymer having siloxy units in polymer backbone. In this study, Poly(dimethylsiloxane-co-methylsiloxane) copolymer was s...

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문제 정의

  • 본 연구에서 저기포성 실리콘계면활성제를 합성하여 기포특성을 검토한 결과 다음과 같은 결론을 얻었다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
수소 규소화 반응(hydrosilation)이란 무엇인가? 유기 규소화합물을 합성하는 반응중의 하나가 수소 규소화 반응(hydrosilation)이다. 이 반응은 탄소-탄소, 탄소-산소, 탄소-질소의 이중 결합 또는 탄소-탄소 삼중결합 등과 같은 다중 결합에 Si-H화합물을 부가시키는 방법을 말한다[6]. 수소 규소화 반응은 산-염기 촉매를 사용하여 반응을 시키면 보다 효과적인 것으로 알려져 있다[7].
수소 규소화 반응을 가장 효과적으로 반응시키기 위한 방법은 무엇인가? 이 반응은 탄소-탄소, 탄소-산소, 탄소-질소의 이중 결합 또는 탄소-탄소 삼중결합 등과 같은 다중 결합에 Si-H화합물을 부가시키는 방법을 말한다[6]. 수소 규소화 반응은 산-염기 촉매를 사용하여 반응을 시키면 보다 효과적인 것으로 알려져 있다[7]. 1957년 J.
실리콘 화합물이 최근 산업분야의 중요한 재료로 각광받고 있는 이유는? 이 반응은 유기 관능기를 갖는 규소화합물의 단위체 합성, 실리콘 고분자의 가교반응, 실리콘 고분자와 유기 고분자를 연결시켜 공중합체를 합성하는 반응 등으로 고분자산업분야에 널리 사용되고 있다. 특히 실리콘 화합물은 다른 화합물에 비하여 내열성, 내한성, 내후성 및 전기절연성 등이 우수하여 최근에는 산업분야의 중요한 재료로도 각광을 받고 있다. 본 연구에서는 환상의 구조를 갖는 실록산과 하이드록시 실록산을 이용하여 일정한 몰비를 갖는 폴리머 유형의 폴리 메틸실록산을 합성한 후, 이들과 알릴 폴리 에틸렌옥사이드와의 수소 규소화 반응에 의한 비이온성 실리콘 계면활성제를 합성하였고, 이들을 분리 정제하여 구조를 확인하였다.
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참고문헌 (14)

  1. E. G. Schwerg, Applied Polymer Synosia No.14 Silicon Technology, 71, John Wiley and Sons Inc., N. Y., (1970) 

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  4. H. J. Liu, L. H. Lin, K. M. Chen, Preparation and properties of water-soluble polyester surfactants, J. Applied Polymer Science, 88(5), 1236 (2003) 

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  11. W. C. Griffin, Calculation to HLB values of non-ionic surfactants, J. Soc. Cosmetic Chemists, 5, 249 (1954) 

  12. A. V. Rao, F. Ozanam, and J. N. Chazalviel, In Situ Fourier-Transform Electromodulated Infrared Study of Porous Silicon Formation: Evidence for Solvent Effects on the Vibrational Linewidths, J. Electrochem. Soc. 138, 153 (1991) 

  13. P. G. Pai, S. S. Chao, Y. Takigi, and G. Lucovsky, Infrared spectroscopic study of SiOx films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition, J. Vac Sci. Technol, A 4, 689 (1985) 

  14. The Aldrich Library of NMR Spectra Vol. 1-11, Aldrich Chem. Co., (1975) 

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