최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.21 no.2, 2008년, pp.93 - 98
김영진 (부산대학교 정밀가공시스템) , 박범영 (부산대학교 기계공학부) , 김형재 (한국생산기술연구원 초정밀성형가공팀) , 정해도 (부산대학교 기계공학부)
We investigated the effect of process temperature on removal rate and non-uniformity based on single head kinematics in oxide CMP. Generally, it has been known that the temperature profile directly transfers to the non~uniformity of removal rate on the wafer, which has similar tendency with the slid...
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
김형재, 'CMP 공정에서 발생하는 연마온도 분 포에 관한 연구', 한국정밀공학회지, 20권, 3호, p. 42, 2003
H. D. Jeong, 'Development of CMP process for global planarization of ULSI', J. of the Korean Society of Mechanical Engineers, Vol. 36, No. 3, p. 220, 1996
J. Sorooshian, 'Tribological, thermal and kinetic characterization of dielectric and metal chemical mechanical planarization process', University of Arizona, p. 71, 2005
M. R. Oliver, 'Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials', Springer, p. 158, 2003
김형재, '회전형 CMP장비의 속도 및 마찰력 분포 해석', 한국정밀공학회지, 20권, 5호, p. 41, 2003
권대희, 'CMP특성과 온도의 상호관계에 관한 연구', 한국정밀공학회지, 19권, 10호, p. 161, 2002
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
출판사/학술단체 등이 한시적으로 특별한 프로모션 또는 일정기간 경과 후 접근을 허용하여, 출판사/학술단체 등의 사이트에서 이용 가능한 논문
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.