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리트벨트 구조분석법에 의한 $CeO_2$의 결정크기 및 미세응력 결정
Determination of Crystal Size and Microstrain of $CeO_2$ by Rietveld Structure Refinement 원문보기

韓國鑛物學會誌 = Journal of the Mineralogical Society of Korea, v.21 no.2 = no.56, 2008년, pp.201 - 208  

황길찬 (경상대학교 지구환경과학과, 경상대학교 기초과학연구소) ,  최진범 (경상대학교 지구환경과학과, 경상대학교 기초과학연구소)

초록
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최근 기능성 나노물질로서 반도체 공정 중 기계.화학적 평탄화(CMP)용 연마제로 중요하게 사용되는 세리아(Ceria, $CeO_2$)에 대해서 X-선 회절분석을 실시하여 리트벨트법에 의한 상세한 구조해석 및 세리아의 입자크기와 미세응력을 측정하였다. 두 시료(RT735. RT835)의 리트벨트 계산 결과 R지수 값은 각각 $R_p(%)=8.50$, 8.34; $R_{wp}(%)=13.4$, 13.5; $R_{exp}(%)=11.3$, 11.5; $R_B(%)=2.21$, 2.36; S(GofF: Goodness of fit)=1.2, 1.2를 보여주며 계산이 잘 이루어졌음을 알 수 있다. $CeO_2$는 공간군 Fm3m을 가지며, 격자상수는 a=5.41074(2), 5.41130(6) ${\AA}$, V=158.406(1), 158.455(3) ${\AA}^3$으로 각각 계산되었다. 입자크기 및 미세응력 계산 결과, RT735의 평균 입자크기와 최대 응력은 37.42(1) nm, 0.0026이며, RT835는 72.80(2) nm, 0.0013으로 각각 결정되었다. 입자크기와 미세응력은 서로 반비례함을 알 수 있다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Ceria ($CeO_2$) becomes one of important functional nanomaterials and a key abrasive material for chemical-mechanical planarization (CMP) of advanced integrated circuits in silicon semi-conductor technology. Two synthetic crystalline ceria (RT735, RT835) are studied by the Rietveld struct...

주제어

#세리아   #기계   #화학적 평탄화   #리트벨트법   #결정크기   #미세응력  

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