$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The properties of a grown film by the chemical vapor deposition process depend on the deposition temperature because the deposition mechanism of the CVD film is controlled by the deposition temperature. The preferred orientation of the zrC film changed from (111) to (220) or (200) with an increase o...

주제어

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • 본 연구는 1인치의 흑연 기판을 모재로 사용하여 원료 기체를 사염화지르코늄(Z1CI4)과 메탄(CHQ로 하여 열화학 기상 증착법을 이용하여 ZrC를 증착함에 있어 증착 온도에 따른 ZrC 증착막의 미세구조와 결정구조의 변화를 분석하고, 이에 따른 경도를 측정하여 증착온도에 따른 ZrC 증착막의 미세구조, 결정구조, 그리고 경도와의 관계를 고찰하고자 하였다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

참고문헌 (19)

  1. A. Arya and Emily A. Carter, "Structure, Bonding, and Adhesion at the ZrC(100)/ Fe(110) Interface from First Principles," Surf. Sci., 560 103-20 (2004) 

  2. G.-M. Song, Y.-J. Wang, and Y. Zhou, "The Mechanical and Thermophysical Properties of ZrC/W Composites at Elevated Temperature," Mater. Sci. Eng. A, 334 223-32 (2002) 

  3. K, -T. Rie, J. Whole, and Gebauer, "Synthesis of thin Coatings by Plasma-assisted Chemical Vapour Deposition Using Metallo-organic Compounds as Precursors," Surf. Coat. Tech., 59 202-06 (1993) 

  4. H. Berndt, A. Q. Zeng, H. R. Stock, and P. Mayr, "Zirconium Carbonitride Film Produced by Plasma-assisted Metal Organic Chemical Vapor Deposition," Surf. Coat. Tech., 74-75 369-74 (1995) 

  5. H. -R. Stock, H. Berndt, and P. Mayr, "Plasma-assisted Chemical Vapour Deposition with Titanium Amides as Precursors," Surf. Coat. Tech., 61 15-23 (1991) 

  6. Y. S. Won, Y. S. Kim, V. G. Varanasi, O. Kryliouk, T. J. Anderson, C. T. Sirimanne, and Lisa McElwee-White, "Growth of ZrC Thin Film by Aerosol-assisted MOCVD," J. Cryst. Growth, 304 324-32 (2007) 

  7. C. M. Hollabauch, R. D. Reiswig, P. Wagner, L. A. Wahman, and R. W. White, "A New Method for Coating Microspheres with Zirconium Carbide and Zirconium Carbidecarbon Coats," J. Nucl. Mater., 57 325-32 (1975) 

  8. P. Wagner, "Research, Development and Production of Substoichiometric Zirconium Carbide for High-temperature Insulation," LASL Report, LA-5224 (1973) 

  9. K. Ikawa and K. Iwamoto, "Coating Microspheres with ZrC-C Composites by the Methylene Dichloride Process," J. Ceram. Soc. Japan, 81 403-6 (1973) 

  10. D. J. Kim and D. J. Choi, "Microhardness and Surface Roughness of Silicon Carbide by Chemical Vapour Deposition," J. Mater. Sci. Lett., 16 286-89 (1997) 

  11. H. S. Kim and D. J Choi, "Effect of Diluent Gases on Growth Behavior and Characteristics of Chemically Vapor Deposited Silicon Carbide Films," J. Am. Ceram. Soc., 82 [2] 331-37 (1999) 

  12. K. Ikawa and K. Iwamoto, "Coating Microspheres with Zirconium Carbide-carbon Alloy by Iodide Process," J. Nucl. Sci. Tech., 11 [6] 263-67 (1974) 

  13. T. Ogawa, K. Ikawa, and K. Iwamoto, "Chemical Vapor Deposition of ZrC within a Spouting Bed by Bromide Process," J. Nucl. Mater., 97 104-12 (1981) 

  14. "Standard Test Methods for Determining Average Gram Size," ASTM E 112-96 (2004) 

  15. W. C. Oliver and G. M. Pharr, "An Improved Technique for Determining Hardness and Elastic Modulus Using Load and Displacement Sensing Indentation Experiments," J. Mater. Res., 7 [6] 1564-83 (1992) 

  16. C. Barret and T. B. Massalski, "Structure of Metals," pp. 204, Pergamon Press, Oxford, 1980 

  17. W. J. Kim, J. Y. Park, J. I. Kim, G. W. Hong, and C. Y. Ha, "Deposition of Large Area SiC Thick Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Method(in Korean)," J. Kor. Ceram. Soc., 38 [5] 485-91 (2001) 

  18. J. Chin P. K. Gantzel, and R. G. Hudson, "The Structure of Chemical Vapor Deposited Silicon Carbide," Thins Solid Films, 41 57-72 (1977) 

  19. B. A. Movchan and A. V. Demchishin, "Investigation of the Structure and Properties of Thick Vacuum Condensates of Nickel, Titanium, Tungsten, and Aluminum Oxide," Fiz. Metal. Metalloved, 28 [4] 653-60 (1969) 

저자의 다른 논문 :

LOADING...

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

GOLD(Hybrid)

저자가 APC(Article Processing Charge)를 지불한 논문에 한하여 자유로운 이용이 가능한, hybrid 저널에 출판된 논문

이 논문과 함께 이용한 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로