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NTIS 바로가기화학공학 = Korean chemical engineering research, v.47 no.2 = no.253, 2009년, pp.141 - 149
권오중 (인천대학교 기계공학과) , 조성기 (서울대학교 화학생물공학부) , 김재정 (서울대학교 화학생물공학부)
The Cu thin film material and process, which have been already used for metallization of CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor), has been highlighted as the Cu metallization is introduced to the metallization process for giga - level memory devices. The recent progresses in the development of...
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