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NTIS 바로가기인포메이션 디스플레이 = Information display, v.10 no.5, 2009년, pp.27 - 32
주정훈 (군산대학교 신소재공학과) , 안병철 ((주)AVACO VE사업부)
초록이 없습니다.
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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평판형 디스플레이 장비 시장과 일반 기계 부품 산업에 있어서 가장 널리 사용되는 장비는? | .) 장비 시장과 일반 기계 부품 산업에 있어서 가장 널리 사용되는 장비의 하나가 스퍼터링 장비 일 것이다. 외견상 일반적인 진공 장비이며 내부에 반송 시스템이 있는 것을 제외하면 별 특별할 것도 없어서 많은 업체들이 기술 장벽을 크게 느끼고 있지 않은 시스템이기도 하다. | |
플라즈마를 형성하는 중성 가스 입자나 스퍼터링된 타켓 입자와 충돌에는 어떤것이 있는가? | 이 때 타겟 뒷면의 자석에서 발생된 자기장이 타겟 표면에서 움직이는 전자의 궤적에 속도와 수직인 방향으로 힘을 발생시켜서 전자의 최종 궤적은 원형이 되는데 3차원적으로 볼 때 타겟 표면에서 수직과 약간의 각도를 가지고 있으면 결국 복잡한 형상을 하면서 타겟 상부를 떠돌아다니는 드리프트 운동을 하게 된다. 충돌이 없을 경우에는 일정한 궤도를 그리면서 이동하지만 플라즈마를 형성하는 중성 가스 입자나 스퍼터링 된 타겟 입자와 충돌(탄성 충돌, 이온화 충돌, 해리 충돌, 내부 에너지 여기 충돌)을 하게 되면 각도가 변하게 되어서 원래의 궤도에서 다른 궤도로 천이를 하게 된다. 단면에서 관찰하면 마치 비닐하우스 같은 모양을 하고 있는데 여기서 수평 자기장이 가장 강한 곳에서 전자들의 이온화 충돌이 가장 빈번하게 일어나고 따라서 타겟의 침식도 다른 부위보다 크게 된다. | |
스퍼터링 장비의 특징은? | ) 장비 시장과 일반 기계 부품 산업에 있어서 가장 널리 사용되는 장비의 하나가 스퍼터링 장비 일 것이다. 외견상 일반적인 진공 장비이며 내부에 반송 시스템이 있는 것을 제외하면 별 특별할 것도 없어서 많은 업체들이 기술 장벽을 크게 느끼고 있지 않은 시스템이기도 하다. R&D용 sputtering system의 경우 진공 장비 업체라면 누구나 만들고 있는 이유이기도 하다. |
C. J. Wikersham, Jr., J. E. Poole, A. Leybovich, and L. Zhu, J. Vac. Sci. TechnolA., 19 (2001) 2767
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