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대면적 고효율 스퍼터링 장치의 시장 현황과 기술적 발전 과제 원문보기

인포메이션 디스플레이 = Information display, v.10 no.5, 2009년, pp.27 - 32  

주정훈 (군산대학교 신소재공학과) ,  안병철 ((주)AVACO VE사업부)

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문제 정의

  • 간략하게 평판형 스퍼터링 시스템에 대한 시장 동향과 기술적 이슈들에 대해서 살펴보았다. 현재 국내에 공급된 LCD용 스퍼터링 시스템은 90% 이상이 외국산이면 그것도 특정 국가의 특정 업체에 한정되어 있었다.
  • 마그네트론 시스템이 갖는 기본적인 문제점이 불균일도에 대한 이슈가 태양 전지용 스퍼터링에서는 고속 스퍼터링과 균일도 개선으로 나타나고 있는데 먼저 고속 스퍼터링 문제를 고찰해 보기로 한다. 스퍼터링 속도는 이론적으로 타겟 표면에 입사하는 이온의 밀도와 타겟 물질의 스퍼터링 수율, 그리고 타겟에서 기판까지의 비행 도중 가스 및 스퍼터 입자와의 충돌로 인한 손실로 결정된다.
  • 그러나 UHV용 sputtering system의 경우 스퍼터 건은 거의 모두 수입에 의존하고 있고 가장 핵심적이면서도 외견상 단순해 보이는 음극 자석 배열의 경우 자기장 계산 정도 해서 균일도를 간접 예측하는 일 조차 몇몇 중견 업체만이 하고 있다. 본고에서는 디스플레이와 태양 전지용 스퍼터링 장비 시장을 중심으로 업계의 수요와 기술적 현황에 대해서 살펴보기로 한다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
평판형 디스플레이 장비 시장과 일반 기계 부품 산업에 있어서 가장 널리 사용되는 장비는? .) 장비 시장과 일반 기계 부품 산업에 있어서 가장 널리 사용되는 장비의 하나가 스퍼터링 장비 일 것이다. 외견상 일반적인 진공 장비이며 내부에 반송 시스템이 있는 것을 제외하면 별 특별할 것도 없어서 많은 업체들이 기술 장벽을 크게 느끼고 있지 않은 시스템이기도 하다.
플라즈마를 형성하는 중성 가스 입자나 스퍼터링된 타켓 입자와 충돌에는 어떤것이 있는가? 이 때 타겟 뒷면의 자석에서 발생된 자기장이 타겟 표면에서 움직이는 전자의 궤적에 속도와 수직인 방향으로 힘을 발생시켜서 전자의 최종 궤적은 원형이 되는데 3차원적으로 볼 때 타겟 표면에서 수직과 약간의 각도를 가지고 있으면 결국 복잡한 형상을 하면서 타겟 상부를 떠돌아다니는 드리프트 운동을 하게 된다. 충돌이 없을 경우에는 일정한 궤도를 그리면서 이동하지만 플라즈마를 형성하는 중성 가스 입자나 스퍼터링 된 타겟 입자와 충돌(탄성 충돌, 이온화 충돌, 해리 충돌, 내부 에너지 여기 충돌)을 하게 되면 각도가 변하게 되어서 원래의 궤도에서 다른 궤도로 천이를 하게 된다. 단면에서 관찰하면 마치 비닐하우스 같은 모양을 하고 있는데 여기서 수평 자기장이 가장 강한 곳에서 전자들의 이온화 충돌이 가장 빈번하게 일어나고 따라서 타겟의 침식도 다른 부위보다 크게 된다.
스퍼터링 장비의 특징은? ) 장비 시장과 일반 기계 부품 산업에 있어서 가장 널리 사용되는 장비의 하나가 스퍼터링 장비 일 것이다. 외견상 일반적인 진공 장비이며 내부에 반송 시스템이 있는 것을 제외하면 별 특별할 것도 없어서 많은 업체들이 기술 장벽을 크게 느끼고 있지 않은 시스템이기도 하다. R&D용 sputtering system의 경우 진공 장비 업체라면 누구나 만들고 있는 이유이기도 하다.
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참고문헌 (1)

  1. C. J. Wikersham, Jr., J. E. Poole, A. Leybovich, and L. Zhu, J. Vac. Sci. TechnolA., 19 (2001) 2767 

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