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[국내논문] 고온에서 Schottky Barier SOI nMOS 및 pMOS의 전류-전압 특성
Current-Voltage Characteristics of Schottky Barrier SOI nMOS and pMOS at Elevated Temperature 원문보기

電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, v.46 no.4 = no.382, 2009년, pp.21 - 27  

가대현 (인천대학교 전자공학과) ,  조원주 (광운대학교 전자재료공학과) ,  유종근 (인천대학교 전자공학과) ,  박종태 (인천대학교 전자공학과)

초록
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본 연구에서는 고온에서 Schottky barrier SOI nMOS 및 pMOS의 전류-전압 특성을 분석하기 위해서 Er 실리사이드를 갖는 SB-SOI nMOSFET와 Pt 실리사이드를 갖는 SB-SOI pMOSFET를 제작하였다. 게이트 전압에 따른 SB-SOI nMOS 및 pMOS의 주된 전류 전도 메카니즘을 온도에 따른 드레인 전류 측정 결과를 이용하여 설명하였다. 낮은 게이트 전압에서는 온도에 따라 열전자 방출터널링 전류가 증가하므로 드레인 전류가 증가하고 높은 게이트 전압에서는 드리프트 전류가 감소하여 드레인 전류가 감소하였다. 고온에서 ON 전류가 증가하지만 드레인으로부터 채널영역으로의 터널링 전류 증가로 OFF 전류가 더 많이 증가하게 되므로 ON/OFF 전류비는 감소함을 알 수 있었다. 그리고 SOI 소자나 bulk MOSFET 소자에 비해 SB-SOI nMOS 및 pMOS의 온도에 따른 문턱전압 변화는 작았고 subthreshold swing은 증가하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this work, Er-silicided SB-SOI nMOSFET and Pt-silicided SB-SOI pMOSFET have been fabricated to investigate the current-voltage characteristics of Schottky barrier SOI nMOS and pMOS at elevated temperature. The dominant current transport mechanism of SB nMOS and pMOS is discussed using the measure...

주제어

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문제 정의

  • 위한 연구는 진행된 것이 거의 없다. 연구에서는 ErSi 구조의 n-채널 SOI MOSFET 와 PtSi 구조의 p-채널 SOI MOSFET를 제작하고 온도에 따른 ON 및 OFF 전류 특성, 문턱 전압 특성 및 subthreshold 특성을 측정 분석하였다.
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참고문헌 (15)

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