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PMOS에 적합한 Mo 전극의 전기적 화학적 안정성
Electrical and Chemical Stability of Mo Gate Electrode for PMOS
원문보기
電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, v.41 no.4 = no.322, 2004년, pp.23 - 28
노영진 (한국항공대학교 전자·정보통신·컴퓨터공학부) , 이충근 (한국항공대학교 전자·정보통신·컴퓨터공학) , 홍신남 (한국항공대학교 전자·정보통신·컴퓨터공학부)
초록
본 논문에서는 Mo을 PMOS의 금속 게이트로 사용하였을 때의 Mo의 특성에 대해서 연구 하였다. Mo을 게이트 물질로 사용한 MOS 커패시터를 제작하였고, 소자의 C-V 특성 곡선으로부터 일함수를 추출하였다. 그 결과 Mo 게이트는 PMOS에 적합한 일함수를 나타내는 것을 알 수 있었다. Mo의 전기적/화학적 안정성을 검증하기 위해서 600, 700, 800 그리고 900℃에서 급속 열처리를 수행하였으며 열처리 이후 유효 산화막의 두께와 일함수의 변화를 살펴보았다. 또한 900℃ 열처리 이후의 XRD 분석을 통해서 Mo 금속 게이트가 SiO₂에 대해서 안정하다는 것을 확인하였다. 4점 탐침기로 측정한 Mo 금속 게이트의 면저항은 10Ω/□ 미만으로 폴리 실리콘에 비해서 매우 작은 값을 나타냈다.
Abstract
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In this paper, the properties of Mo as PMOS gate electrodes were studied. The work-function of Mo extracted from C-V characteristic curves was appropriate for PMOS. To identify the electrical and chemical stability of Mo metal gate, the changes of work-function and EOT(Effective Oxide Thickness) val...
주제어
참고문헌 (17)
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저자의 다른 논문 :
- [본원] 대전광역시 유성구 대학로 245 한국과학기술정보연구원
- [분원] 서울시 동대문구 회기로 66 한국과학기술정보연구원
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