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산화물 TFT 연구 동향 원문보기

인포메이션 디스플레이 = Information display, v.11 no.2, 2010년, pp.2 - 6  

권장연 (서울대학교 재료공학부)

초록이 없습니다.

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후속연구

  • 대부분의 산화물 반도체 물질은 상온 공정을 이용하여 형성하는 있는 것이 이를 대변한다. 이렇게 저온공정에 유리한 산화물 TFT가 향후 flexible display 적용이 가능할 것으로 예상된다.
  • 대형화의 경우, 70inch에서 100inch로 크기가 커졌을 경우 화면시야각 (field of view)가 35도에서 49도로 증가하여 유저가 더욱 현실감을 느끼게 된다. 해상도의 경우 현재의 FHD는 약 2000 x 1000개의 pixel로 구현되는데 향후 4000 x 2000개의 UD (Ultra definition) 으로 발전할 것으로 예상된다. 고속 구동의 경우, 구동속도를 60Hz에서 240Hz로 증가할수록 이미지 잔상의 겹침 현상 (blur)의 감소로 인하여 동영상 특성이 우수하여 진다 [그림 1].
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
중대형 AMOLED의 구현을 위해 만족되어야 하는 것은? 이러한 AMOLED의 소형제품은 2008년 양산 중에 있다. 하지만 중대형 AMOLED의 구 현을 위하여서는 이를 구동하는 TFT가 대면적 균일도 및 전류신뢰성이 동시에 만족되어야 한다. 현재 소형 AMOLED에서 사용 중인 저온 다결정 Si TFT의 경우에 는 우수한 전류신뢰성 특성을 보이고 있으나 대면적 적용시 균일도 특성의 향상이 필요하다.
AMLCD TV의 향후 발전방향은? 현재 AMLCD TV의 경우 40~50inch 크기, FHD (Full high definition, pixel 개수 약 2백만개), 120Hz (초당 120장의 화면 구현) 구동속도의 제품이 시장의 주류를 이루고 있다. 이러한 AMLCD TV의 향후 발전 방향은 1) 대형화 2) 고해상도화 3) 고속구동화의 세 가지 발전 방향으로 예상된다. 대형화의 경우, 70inch에서 100inch로 크기가 커졌을 경우 화면시야각 (field of view)가 35도에서 49도로 증가하여 유저가 더욱 현실감을 느끼게 된다.
산화물 TFT의 주요 디스플레이 응용처 4가지는 무엇인가? 산화물 TFT의 주요 디스플레이 응용처로는 다음의 4가지로 요약 될 수 있다. 1) 중대형 AMOLED 2) Flexible display 3) Transparent display 4) 고해상도 AMLCD 용 TFT backplane이 그것이다. AMOLED는 궁극의 디스플레이가 추구하는 거의 모든 성능의 구현이 가능하여 차세대 디스플레이로 주목 받 고 있다.
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참고문헌 (9)

  1. E. Fortunato, P. Barquinha, A. Pimentel, A. Goncalves, A. Marques, L. Pereira, R. Martins, Adv. Mater. 17, 590.(2005) 

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  3. D. Hong, H. Q. Chiang, J. F. Wager, J. Vac. Sci. Technol. B, 24, L23. (2006) 

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  5. J. K. Jeong, J. H. Jeong, H. W. Yang, J.-S. Park, Y.-G. Mo, H. D. Kim, Appl. Phys. Lett., 91, 113505. (2007) 

  6. J.-S. Park, K. Kim, Y.-G. Park, Y.-G. Mo, H. D. Kim, J. K. Jeong, Adv Mater. , 21, 329. (2009) 

  7. K.-S Son, T.-S. Kim, J.-S. Jung, M.-K. Ryu, K.-B. Park, B.-W. Yoo, J. Y. Kwon, Electrochem. Sol. Stat. Lett., 12, H26 (2008) 

  8. J. Y. Kwon, J.-S. Son, J.-S. Jung, K.-H. Lee, J. S. Park, T.-S. Kim, K. H. Ji, R. Choi, J. K. Jeong, B. Koo, S. Y. Lee, Electrochem. Sol. Stat. Lett., accepted (2010) 

  9. K.-H Lee, J.-S. Jung, K.-S. Son, J. S. Park, T. -S. Kim, R. Choi, J. K. Jeong, J. Y. Kwon, B. Koo, S. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 95, 232106 (2009) 

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