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문제 정의
- 본 기고에서는 LTPS 공정기술을 소개하고 최근 연구되고 있는 UV 고체 레이저를 이용한 연구 동향과 레이저 결정화 기술에 대한 이론적 모델을 소개하고자 한다. 또한 현재 새롭게 시도되고 있는 LTPS기술을 소개함으로써 LTPS 기술을 전망하고자 한다. 현재의 LTPS 기술은 이미 10여년 전에 완성되어 더 이상의 기초 연구가 이루어지지 않았는데 , 향후 LTPS 기술을 기반으로 하는 기술 혁신이 이루어져서 차세대 결정화 기술로써 새로운 도약이 이루어지기를 기대해 본다.
- 특히 최근 IT 기기에서 UHD (Ultra High Definition) 를 넘어 HMD (Head Mount Display) 용 초고해상도를 구현하기 위해서는 p-Si의 정렬 성을 더욱 높이거나 용도에 따라 다양한 크기의 p-Si 그레인 (grain)을 형성할 수 있는 Advanced LTPS 기술이 필요하다. 본 기고에서는 LTPS 공정기술을 소개하고 최근 연구되고 있는 UV 고체 레이저를 이용한 연구 동향과 레이저 결정화 기술에 대한 이론적 모델을 소개하고자 한다. 또한 현재 새롭게 시도되고 있는 LTPS기술을 소개함으로써 LTPS 기술을 전망하고자 한다.
- B9] 이러한 레이저 에너지 분포는 Si 표면에 불균일한 에너지 흡수를 초래하고 결과적으로 표면파의 에너지 밀도 분포대로 표면에서 melting and growth가 일어난다. 이러한 결과는 물질의 종류나 레이저의 파장과 무관한 일반적인 속성이며 다음 몇가지 사례를통해서 LIPSS 에 대해서 알아 보기로 한다.
- 특히 스마트폰, HMD 등 IT 기기에서 요구되는 초고해상도 디스플레이에 적용하기 위해서는 Si grain의 정렬 성을 더욱 향상시키거나 혹은 Si grain의 크기를 자유롭게 조절할 수 있는 공정 기술이 요구된다. 이에 본 장에서는 차세대 LTPS 공정 기술로 주목받는 기술의 흐름을 제시하고자 한다.
가설 설정
- 조사 횟수에 의해 영향을 받는다.B9] 이러한 레이저 에너지 분포는 Si 표면에 불균일한 에너지 흡수를 초래하고 결과적으로 표면파의 에너지 밀도 분포대로 표면에서 melting and growth가 일어난다. 이러한 결과는 물질의 종류나 레이저의 파장과 무관한 일반적인 속성이며 다음 몇가지 사례를통해서 LIPSS 에 대해서 알아 보기로 한다.
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