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전력전자학회 논문지 = The Transactions of the Korean Institute of Power Electronics, v.15 no.4, 2010년, pp.274 - 281
정두용 (성균관대 태양광협동과정) , 남창우 ((주)뉴파워 프라즈마 개발팀) , 이정호 ((주)뉴파워 프라즈마 기술기획팀) , 최대규 ((주)뉴파워 프라즈마) , 원충연 (성균관대 정보통신공학부)
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This paper proposes a DFPS (Dual Frequency Power Source) impedance matching device for uniformity improvement of a semiconductor plasma etching system. The DFPS consists of two parts for safe plasma processing on large-area substrates. The first part is an ICP (Inductively Coupled Plasma) for high i...
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| 핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
|---|---|---|
| 패러데이 쉴드는 어떠한 역할을 하는가? | 패러데이 쉴드는 축전 전기장을 감소시키며 유도 전기장을 플라즈마에 전달하는 역할을 한다. 밀도는 높은 방식이나 재현성이 불균일하며, 대면적으로 갈수록 사용되는 전극의 형태가 복잡하고, 구성하는 소재의 가격이 급격히 증가한다. | |
| 기존 평판용 플라즈마 장치의 단점은 무엇인가? | 예를 들어 50nm급 이하 공정에서는 주파수 특성 및 소스의 형태, 챔버(chamber) 내부 환경에 따라 균일도 불량이 문제시 되어 왔다. 이에 따라 기존 평판용 플라즈마 장치에서는 막질에 따른 증착 또는 식각률은 낮고, 생산성도 낮은 단점이 있다.[1-2] | |
| CCP의 장점은 무엇인가? | CCP는 일반적으로 가장 많이 사용되는 방식이다. 동작원리가 단순하며 플라즈마 균일도를 확보하는데 상당히 유리하다는 장점이 있다. 하지만 CCP는 상하부 전극 사이의 전기장에 의해 플라즈마가 발생되고 제어되는데 이 전기장은 상하부의 전극모양, 주변 구조물들의 재료적 특성, 기계적 특성, 전기적 특성, 기하학적 특성에 아주 민감하기 때문에 하드웨어를 구성하는데 있어 상당한 노하우가 필요하다는 단점이 있다. |
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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