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Design of DGMOSFET for Optimum Subthreshold Characteristics using MicroTec 원문보기

International journal of maritime information and communication sciences, v.8 no.4, 2010년, pp.449 - 452  

Jung, Hak-Kee (Department of Electronic Eng., Kunssan National University) ,  Han, Ji-Hyeong (Department of Electronic Eng., Kunssan National University)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We have analyzed channel doping and dimensions(channel length, width and thickness) for the optimum subthreshold characteristics of DG(Double Gate) MOSFET based on the model of MicroTec 4.0. Since the DGMOSFET is the candidate device to shrink short channel effects, the determination of design rule ...

주제어

AI 본문요약
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제안 방법

  • We know the variations of threshold voltage is large with increasing channel thickness and the variation of threshold voltage according to gate oxide thickness is neglected at small channel thickness. Note the variation of subthreshold swing with gate oxide thickness is also neglected at small channel thickness, and the subthreshold swings is nearly constant above gate length of 20nm regardless of gate oxide thickness The results in this study can use to design optimum DGMOSFET.

이론/모형

  • Resulting doping profiles may be used in a straightforward manner to generate the entire structure of a semiconductor device for subsequent evaluation of I-V curves in a few minutes on a PC. The algorithm is based on the finite-difference formulation and a rectangular mesh. The physical model adopted describes the diffusion process for up to three interacting charged impurities in a two-dimensional domain with moving oxide boundary and impurity segregation at the Si/SiO2 interface.
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참고문헌 (5)

  1. K. K. Young, "SCEs in fully depleted SOI MOSFETs," IEEE Trans. Electron Devices vol. ED-36, 1989, pp. 399-402. 

  2. H. K. Jung and S. Dimitrijev, "Analysis of Subthreshold Carrier Transport for Ultimate DGMOSFET," IEEE Trans. Electron Devices, vol. ED-53, 2006, pp. 685-691. 

  3. MicroTec Semiconductor Process and Device Simulator, Version 4.0 for windows, Siborg Systems Inc, 2003, pp63-95. 

  4. Q.Chen, B.Agrawal and J.D.Meindl, "A Comprehensive Analytical Subthreshold Swing(S) Model for Double-Gate MOSFETs", IEEE Trans. Electron Devices, vol. 49, no.6, 2002, pp.1086-1090. 

  5. D.S.Havaldar, G.Katti, N.DasGupta and A.DasGupta, "Subthreshold Current Model of FinFETs Based on Analytical Solution of 3-D Poisson's Equation," IEEE Trans. Electron Devices, vol. 53, no.4, 2006, pp.737-741. 

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