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[국내논문] 결정질 태양전지를 위한 HF 화학 패시베이션 연구
A Study on HF Chemical Passivation for Crystalline Silicon Solar Cell Application 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.10 no.1, 2011년, pp.51 - 55  

최정호 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과) ,  노시철 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과) ,  유동열 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과) ,  이진화 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과) ,  김영철 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학부) ,  서화일 (한국기술교육대학교 전기.전자.통신공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The surface passivation is one of the important methods that can improve the efficiency of solar cells and can be classified into two methods: wet-chemical passivation and film passivation. In this paper, chemical HF treatment were employed for the passivation of n-type silicon wafers and their effe...

주제어

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문제 정의

  • 본 논문에서는 빛에 의해 발생되는 minority carrier lifetime 측정방법을 사용하여 n형 실리콘 웨이퍼의 화학 HF(이하 HF) 처리 효과를 조사하였다. HF 처리 시간 및 농도를 가변하여 lifetime을 측정 하였으며, HF 처리와 SiNx막 증착을 동시에 사용하여 그에 따른 lifetime의 변화를 비교/분석하였다.
  • 본 연구에서는 n형 실리콘 웨이퍼의 lifetime 을 증가시키기 위해 HF 처리를 이용한 화학 패시베이션에 대해 연구 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
태양전지란? 최근 대체 에너지로서 태양전지는 세계적으로 큰 관심을 받고 있다. 태양전지는 태양에너지를 전기에너지로 변환시켜주는 무공해 및 반영구적인 장치로서, 그 발전성이 크게 기대되고 있다[1-2]. 여러 종류의 태양 전지 중에서도 결정질 실리콘 태양전지는 전체 태양전지 시장의 80% 이상을 차지 할 정도로 태양산업의 중심에 있다.
태양전지산업에서 가장 중요한 것은 무엇인가? 태양전지산업에서 가장 중요한 것은 효율은 높이고 제조 단가를 낮추는 것이라고 할 수 있다. 빛의 표면 반사 손실을 줄이기 위한 표면조직화와 반사 방지막 형성, 태양전지 후면에서의 전자-전공쌍(electron-hole pair) 재결합 손실을 방지하는 후면 전기장(back surface filed) 형성, 단파장 영역의 빛 에너지의 흡수율을 높이기 위한 SE(selective emitter) 및 태양전지 전면에서의 전자의 재결합 손실을 줄이기 위한 표면 패시베이션 등 효율을 높이기 위한 많은 연구들이 이루어지고 있다[3-4].
태양전지의 효율을 개선시키기 위한 표면 패시베이션은 어떤 방법으로 나누어 지는가? 즉, minority carrier lifetime을 증가시킴으 로써 태양전지의 효율을 개선시킨다[3-4]. 표면 패시베이션은 HF(hydrofluoric)나 요오드(iodine) 등의 화학 용액을 이용한 방법과 SiO2(silicon oxide)막이나 Si3N4(silicon nitride)막 등의 박막을 이용한 방법으로 크게 나눌 수 있다. HF 처리에 의한 화학 패시베이션 경우 웨이퍼 표면의 dangling bonds 등 결합의 수소 종단으로 인해 패시베이션 효과가 기대된다.
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참고문헌 (12)

  1. Korea Institute of Energy Research, "2011 workshop of association for research on PV", KIER, pp. 1-122, 2011. 

  2. Korea Photovoltaic Industry Association, "PV World Forum 2011: 1st Day - Conference Data Book", Infothe, pp. 9-188, 2011. 

  3. Kim, Y. H., Lee, J. S., "Introduction to Solar Cell Production", Dooyangsa, pp. 9-313, 2009. 

  4. PVCDROM, http://www.pvcdrom.pveducation.org/. 

  5. Florence W. Chen, Tsu-Tsung A. Li, and Jeffrey E. Cotter, "PECVD silicon nitride surface passivation for high-efficiency n-type silicon solar cells", IEEE 4th WCPEC, Vol. 1, pp. 1020-1023, 2006. 

  6. Jianhua Zhao and Aihua Wang, "High efficiency rear emitter PERT cells on CZ and FZ n-type silicon substrates", IEEE 4th WCPEC, Vol. 1, pp. 996-999, 2006. 

  7. H. Angermann, W. Henrion, M. Rebien, A. Roseler, "Wet-chemical passivation and characterization of silicon interfaces for solar cell applications", Solar Energy Materials & Solar Cells, Vol. 83, PP. 331-346, 2004. 

  8. H. Angermann, "passivation of structured p-type silicon interface: Effect of surface morphology and wet- $\gg:\ll$ - pre-treatment", Applied Surface Science, Vol. 254, pp. 8067-8074, 2008. 

  9. Young Do Kim, Sungeun Park, Jooyong Song, Sung Ju Tark, Min Gu Kang, Soonwoo Kwon, Sewang Yoon, Donghwan Kim, "Surface passivation of crystalline wafer via hydrogen plasma pre-treatment for solar cells", Solar Energy Materials & Solar Cells, Vol. 95, pp. 73-76, 2011. 

  10. Hiroshi Yamamoto, Michio Ohsubo, Tsutomu Sugiura, Amornrat Limmanee, Takehiko Sato, Shinsuk Miyajima, Akira Yamada and Makoto Konagil, "Low temperature deposition of a-SiO:H films for high quality rear surface passivation", 22nd EUPVSEC, pp. 1224-1226, 2007. 

  11. A.Laades, J.Brauer, U.Sturzebeeher, K.Neckermann, K.Klimm, M.Blech, K.Lauer, A.Lawerenz, H.Angermann, "Wet-chemical treatment of solar grade cz silicon prior to surface passivation", 24nd EUPVSEC, pp. 1640-1644, 2009. 

  12. Korea Institute of Energy Research, "Effect of cleaning processes of silicon wafer on surface passivation and a-Si:H/c-Si hetero-junction solar cell performances". Korean Journal of Materials Research, Vol. 20, pp. 210-216, 2010. 

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