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[국내논문] Chemical HF Treatment for Rear Surface Passivation of Crystalline Silicon Solar Cells 원문보기

Transactions on electrical and electronic materials, v.14 no.4, 2013년, pp.203 - 207  

Choi, Jeong-Ho (Department of Electrical & Electronic & Communication Engineering, Korea University of Technology and Education) ,  Roh, Si-Cheol (Department of Electrical & Electronic & Communication Engineering, Korea University of Technology and Education) ,  Jung, Jong-Dae (Department of Electrical & Electronic & Communication Engineering, Korea University of Technology and Education) ,  Seo, Hwa-Il (Department of Electrical & Electronic & Communication Engineering, Korea University of Technology and Education)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

P-type Si wafers were dipped in HF solution. The minority carrier lifetime (lifetime) increased after HF treatment due to the hydrogen termination effect. To investigate the film passivation effect, PECVD was used to deposit $SiN_x$ on both HF-treated and untreated wafers. $SiN_x$

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제안 방법

  • This research attempted to identify improvements in crystalline silicon solar cell efficiency by improving the rear side passivation characteristics using a chemical HF treatment method on p-type silicon wafers. PERCs were fabricated with HF treatment on the rear side of the wafer to measure the efficiency.

대상 데이터

  • SiNx was deposited using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). Silane (SiH4), ammonia (NH3), and nitrogen (N2) gases were used, and the substrate temperature was 400℃. The NH3/SiH4 ratio was 4, and the RF power was 600 W.
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