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NTIS 바로가기전기학회논문지. The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. P, v.61 no.3, 2012년, pp.116 - 121
반정현 (인천대 공대 전기공학과) , 한희민 (인천대 공대 전기공학과) , 김준석 (인천대 공대 전기공학과)
Recently, in the field of renewable energy such as solar cells including the semiconductor and display industries, thin film deposition process is being diversified. Furthermore, to deal with trend of making high-quality and fast, the high-capacity and output plasma power supply which can control hi...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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스퍼터링이란 무엇인가? | 스퍼터링은(sputtering)은 진공을 이용하여 이루어지는 대표적인 물리증착(Physical Vapor Deposition; PVD) 기술의 하나이며 재현성이 우수하며 사용이 편리하여 그 응용이 점차 확대되고 있다. | |
코팅 공정에서 가장 문제되는 현상은 무엇인가? | 코팅 공정에서 가장 문제가 되는 것은 고압의 플라즈마 발생장치를 사용함으로써 야기되는 아크현상이라 할 수 있다. 플라즈마 스퍼터 시스템에서 아크가 발생할 경우 부하측으로 과도한 아크에너지가 전가되며, 아크에너지가 클 경우 불필요한 불순물(Particle)을 발생시켜서 피코팅물(Substrate)에 증착됨으로써 박막제품의 불량을 발생시킨다. | |
아크현상은 어떤 문제를 야기하는가? | 코팅 공정에서 가장 문제가 되는 것은 고압의 플라즈마 발생장치를 사용함으로써 야기되는 아크현상이라 할 수 있다. 플라즈마 스퍼터 시스템에서 아크가 발생할 경우 부하측으로 과도한 아크에너지가 전가되며, 아크에너지가 클 경우 불필요한 불순물(Particle)을 발생시켜서 피코팅물(Substrate)에 증착됨으로써 박막제품의 불량을 발생시킨다. |
Geoffrey N. Drummond, Richard A.Scholl "ENHAVCED REACTIVE DC SPUTTERING SYSTEM" U. S. Patent 5,718,813, Feb. 17, 1998
Noborn Kuriyama, Yutaka Yatsu "POWER SUPPLY UNIT FOR SPUTTERING DEVICE" U. S. Patent 6,416,638 B1 , Jul, 9, 2002
J. Sellers, "Asymmetric bipolar pulsed DC: Theenabling technology for reactive PVD," Surface and Coatings Technology. vol. 98, no. 1, pp. 1245-1250(6), January 1998.
Weerasak Somkhunthot "Bipolar Pulsed-DC Power Supply for Magnetron Sputtering and Thin Films Synthesis"Faculty of Electrical Engineering Universiti Teknologi Malaysia Vol. 9, no. 2, pp20-26
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