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RF 플라즈마 전력 전송 기술 원문보기

인포메이션 디스플레이 = Information display, v.18 no.6, 2017년, pp.12 - 20  

이상원 (인투코어 테크놀로지(주) 기술혁신팀)

초록이 없습니다.

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문제 정의

  • 이 논문에서는 고주파 전원을 사용하는 플라즈마 장치에 필요한 구성요소와 작동원리, 그리고 ICP 장치에서 고려되어야 할 내용들을 소개한다.

가설 설정

  • 분배율을 고정하지 않고, 공정조건에 따라 조절이 필요한 경우는 (b)와 (c)에 추가로 장착한 소자를 가변형으로 변경하여 사용할 수 있다. 하지만, 가변 inductor는 상대적으로 전력손실이 낮고 제품 선택의 폭에 제한이 많아서 (b)의 회로에 가변 capacitor를 사용하는 것이 일반적이다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
임피던스란 무엇인가? 임피던스는 전압과 전류의 상관관계를 규정짓는 양이며, 다음과 같이 전류에 대한 전압의 비율로서 정의 된다.
고주파 전원 장치의 전력 제어방식 중 스위칭 방식의 한계는 무엇인가? 이에 따라 더 적은 수의 증폭기를 이용해 동일한 전력을 공급할 수 있으며, 증폭기에 DC 전력을 공급하는 DC 전원 공급 장치도 크기가 작아지는 장점이 있다. 이러한 장점으로 인해 최근 널리 사용되고 있으나 전력제어를 위해 대전력을 공급하는 DC 전원장치의 출력을 제어해야 하므로 상대적으로 제어 속 력을 빠르게 확보하는 것이 상대적으로 어렵다.[1]
고주파 전원 장치는 무엇으로 구성되는가? 고주파 전원 장치는 크게 신호발생부, 증폭기, 증폭기에 전력을 공급하기 위한 DC 전원 공급 장치, 여러 개의 단위 증폭기 출력을 연결하는 컴바이너, 주파수 특성을 조정하기 위한 필터, 출력 전력과 반사파를 측정하기 위한 센서, 그리고 전력제어를 위한 제어부로 구성된다.
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참고문헌 (5)

  1. L. E. Frenzel, RF Power for Industrial Applications, Prentice Hall, (2003). 

  2. R. Ludwig and P. Bretchko, RF Circuit Design: Theory and Applications, Pearson, (2000). 

  3. D. L. Goodman and N. M. P. Benjamin, J. Phys. D:Appl. Phys., 36, 2845 (2003). 

  4. V. Brouk and R. Heckman, Stabilizing RF generator and Plasma Interactions, Proc. 47th Society of Vacuum Coaters(Dallas), 2004. 

  5. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, 2nd edition, A John Wiley & Sons, 2005 

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