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증착 온도 및 수소 유량에 따른 IZO 박막의 구조적 및 전기적 특성
Structural and Electrical Characteristics of IZO Thin Films Deposited at Different Substrate Temperature and Hydrogen Flow Rate 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.12 no.2, 2013년, pp.33 - 37  

한성호 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ,  이규만 (한국기술교육대학교 신소재공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this study, we have investigated the effect of the substrate temperature and hydrogen flow rate on the characteristics of IZO thin films for the organic light emitting diodes (OLED) devices. For this purpose, IZO thin films were deposited by RF magnetron sputtering at room temperature and $3...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 R.F. magnetron sputtering을 이용하여 IZO 박막을 증착하였으며, 증착 온도(상온 및 300℃) 및 주입되는 수소의 유량 변화가 박막의 구조적, 전기적, 및 광학적 특성에 어떠한 영향 미치는 것인가를 자세히 규명하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
디스플레이 산업은 무엇에 대한 투자와 연구가 집중되고 있는가? 현재의 디스플레이 산업은 LCD, PDP, FED, OLED 등의 각종 평판 디스플레이 (FPD, Flat Panel Display) 의 개발에 많은 투자와 연구가 집중되고 있으며, 최근에는 유연 디스플레이 (flexible Display)의 개발에 까지 그 영역을 넓히고 있다. 이에 따라 각종 디스플레이 소자의 공통 기반기술인 고품위 투명 전도성 산화물 (TCO : Transparent Conducting Oxide) 박막 재료의 개발 및 제조 기술들에 대한 연구가 급속히 증가하고 있다[1-3].
디스플레이 산업의 영역이 넓어짐에 따라 어떤 재료의 개발 및 제조기술들에 대한 연구가 증가하고 있는가? 현재의 디스플레이 산업은 LCD, PDP, FED, OLED 등의 각종 평판 디스플레이 (FPD, Flat Panel Display) 의 개발에 많은 투자와 연구가 집중되고 있으며, 최근에는 유연 디스플레이 (flexible Display)의 개발에 까지 그 영역을 넓히고 있다. 이에 따라 각종 디스플레이 소자의 공통 기반기술인 고품위 투명 전도성 산화물 (TCO : Transparent Conducting Oxide) 박막 재료의 개발 및 제조 기술들에 대한 연구가 급속히 증가하고 있다[1-3].
투명 전도성 산화물 박막 중 가장 널리 사용되고 있는 물질은? 이러한 투명 전도성 산화물 박막 중 가장 널리 사용 되고 있는 물질인 ITO (Indium Tin Oxide) 박막은 ntype의 전도특성을 갖는 산화물 반도체로서 넓은 밴드 갭과 함께 가시광 영역에서의 높은 투과율과 전기전도 성을 나타낸다[4,5]. 그러나 ITO 박막이 높은 전기 전도특성과 광투과율을 얻기 위해서는 250 이상의 고온 증착이 요구되며 300 이상에서 증착 후 열처리를 해야만 한다.
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참고문헌 (12)

  1. K. Ishibashi, K. Hirata, and N. Hosokawa, "Mass spectrometric ion analysis in the sputtering of oxide targets", Journal of Vacuum Science & Technology A., 10, pp.1718-1722, 1992. 

  2. K. Tominaga, T. Ueda, T. Ao, M. Kataoka, and I. Mori, "ITO films prepared by facing target sputtering system", Thin Solid Films, 281-282, pp. 194-197, 1996. 

  3. Y. Hoshi, H. Kato, and K. Funatsu, "Structure and electrical properties of ITO thin films deposited at high rate by facing target sputtering", Thin Solid Films, 445, pp. 245-250, 2003. 

  4. N. Taga, M. Maekawa, Y. Shigesato, I. Yasui, M. Kamei and T. E. Haynes, "Deposition of Heteroepitaxial $In_2O_3$ Thin Films by Molecular Beam Epitaxy", Jpn. J. Appl.Phys., 37, pp.6524-6529, 1998. 

  5. C. Nunes de Carvalho, A. M. Botelho do Rego, A. Amaral, P. Brogueira and G. Lavareda, "Effect of substrate temperature on the surface structure, composition and morphology of indium-tin oxide films", Surface and Coatings Technology, 124, pp. 70 - 75, 2000. 

  6. Y. S. Jung, J. Y. Seo, D. K. Lee and D. Y. Jeon, "Influence of DC magnetron sputtering parameters on the properties of amorphous indium zinc oxide thin film", Thin Solid Films, 445, pp. 63-71, 2003. 

  7. K. H. Noh, M. K. Choi, S. H. Park, and H. R, Joo, "Amorphous Transparent Conducting film $In_2O_3$ :Zn", Hankook Kwanghan Hoeji, 13, pp.455-459, 2002. 

  8. D. C. Paine, B. Yaglioglu, Z. Beiley, and S. Lee, "Amorphous IZO-based transparent thin film transistors", Thin Solid Films, 516, pp.5894-5898, 2008. 

  9. L. Raniero, I. Ferreira, A. Pimentel, A. Goncalves, P. Canhola, E. Fortunato, and R. Martins, "Role of hydrogen plasma on electrical and optical properties of ZGO, ITO and IZO transparent and conductive coatings", Thin Solid Films, 511-512, pp. 295-298, 2006. 

  10. K. E. Cheon, D. Y. Lee, Y. R. Cho, and P. K. Song, "Effects of reactive gas addition on the mechanical property and water permeability of IZO films deposited by DC sputtering for application to flexible OLED", J. Kor. Inst. Surf. Eng., 40, pp. 245-249, 2007. 

  11. N. Ito, Y. Sato, P.K. Song, A. Kaijio, K. Inoue, and Y. Shigesato, "Electrical and optical properties of amorphous indium zinc oxide films", Thin Solid Films, 496(1), pp.99-103 (2006). 

  12. Y. S. Song, J. K. Park, T. W. Kim, and C. W. Chung, "Influence of process parameters on the characteristics of indium zinc oxide thin films deposited by DC magnetron sputtering", Thin Solid Films, 467, pp. 117-120, 2004. 

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