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문제 정의
- 본 논문에서는 이러한 문제점을 해결하고자 마이크로 그라비어 코팅 장비를 디자인, 설계 및 제작하여 각각의 요소기술들에 대해 소개하고, 실제 코팅 공정을 통해 코팅 속도, 코팅 표면 물성 등을 측정하여 연속공정이 가능할 수 있도록 전체적인 시스템을 구축하였다. 그리고 본 논문에서 제안한 마이크로 그라비어 코터를 이용한 최적의 코팅 공정을 소개하고자 한다. 특히, OLED, OPV같은 인쇄전자소자의 구조를 살펴보면 전면 코팅이 필요한 투명 전극층과 부분면 코팅이 요구되는 반도체잉크 및 접촉 전극층으로 구성되며, 전면 코팅이 필요한 투명 전극층의 두께는 40nm 이하, 부분면 코팅이 요구되는 활성층 또는 발광층은 50-200nm, 버퍼층은 50nm 이하, 접촉 전극층은 1um 이상의 두께를 코팅해야 하는데, 본 연구에서는 이들 소자를 제작하기 위한 멀티 코터의 공정기술과 개발된 장비를 소개하고자 한다.
- 본 논문에서는 기존의 배치 타입 코팅 방식의 문제점으로 지적되어 산업화에 이르기에 다소 문제점이 있었던 코팅 속도 및 코팅에 따른 표면거칠기 등을 개선하고 대량생 산이 가능할 수 있도록 연속 공정 방식의 마이크로 그라비어 코터를 개발하고 이에 따른 공정 연구를 수행하였다. 코팅 결과를 비교했을 때 코팅 두께는 기존 코팅 방식에 비해 더 넓은 범위의 코팅 두께를 형성 할 수 있었으며, 코팅 후 표면거칠기는 보다 안정된 거칠기를 갖는 것을 확인하였다.
- 본 논문에서는 기존의 코팅 방식 대신 연속, 대량생산이 가능한 마이크로 그라비어 코팅 장비를 설계 및 제작하고 이에 따른 코팅 공정 실험을 수행하여 본 연구 범위 안에서 다음과 같은 결론을 얻을 수 있었다.
- 본 논문에서는 이러한 문제점을 해결하고자 마이크로 그라비어 코팅 장비를 디자인, 설계 및 제작하여 각각의 요소기술들에 대해 소개하고, 실제 코팅 공정을 통해 코팅 속도, 코팅 표면 물성 등을 측정하여 연속공정이 가능할 수 있도록 전체적인 시스템을 구축하였다. 그리고 본 논문에서 제안한 마이크로 그라비어 코터를 이용한 최적의 코팅 공정을 소개하고자 한다.
- 그리고 본 논문에서 제안한 마이크로 그라비어 코터를 이용한 최적의 코팅 공정을 소개하고자 한다. 특히, OLED, OPV같은 인쇄전자소자의 구조를 살펴보면 전면 코팅이 필요한 투명 전극층과 부분면 코팅이 요구되는 반도체잉크 및 접촉 전극층으로 구성되며, 전면 코팅이 필요한 투명 전극층의 두께는 40nm 이하, 부분면 코팅이 요구되는 활성층 또는 발광층은 50-200nm, 버퍼층은 50nm 이하, 접촉 전극층은 1um 이상의 두께를 코팅해야 하는데, 본 연구에서는 이들 소자를 제작하기 위한 멀티 코터의 공정기술과 개발된 장비를 소개하고자 한다.
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