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분무열분해법(Spray Pyrolysis)에 의한 알루미늄 산화물과 보론 산화물이 함께 도핑된 산화아연(AZOB: $Al_2O_3$ and $B_2O_3$ Co-doped Zinc Oxide)의 분말 제조에 대한 연구
The studies on synthesis of aluminum oxide and boron oxide co-doped zinc oxide(AZOB) powder by spray pyrolysis 원문보기

한국유화학회지 = Journal of oil & applied science, v.31 no.4, 2014년, pp.731 - 739  

김상헌 (한밭대학교 화학생명공학과)

초록
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투명 전도성 산화물로서 알루미늄과 붕소가 함께 도핑된 아연산화물(AZOB)이 $900^{\circ}C$에서 분무 열분해법에 의해 제조되었다. 얻어진 마이크론 크기의 AZOB 분말은 알루미늄, 붕소 및 아연의 수용액으로부터 얻어진다. 분무 열분해로 얻어진 마이크론 크기의 AZOB 분말은 $700^{\circ}C$에서 두 시간동안의 후 소성 과정과 24 시간 동안의 볼 밀링을 통해 나노 크기의 AZOB으로 변환된다. AZOB을 구성하는 일차 입자의 크기를 Debye-Scherrer 식에 의해 계산하였고 압축된 AZOB 펠렛의 표면 저항을 측정하였다.

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Aluminum and boron co-doped zinc-oxide(AZOB) powders as transparent conducting oxide(TCO) were prepared by spray pyrolysis at $900^{\circ}C$. The micron-sized AZOB particles were prepared by spray pyrolysis from aqueous precursor solutions for aluminium, boron, and zinc. The micron-sized ...

주제어

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문제 정의

  • 두 개의 금속이 도핑된 ZnO는 단일 금속이 도핑된 ZnO 보다 가시광선 영역에서의 투명성이 우수하기 때문에 광학 디바이스 용도에 사용이 증대되고 있다[7-13]. 본 연구는 두 개의 금속이 도핑된 ZnO로서 Al2O3와 B2O3가 도핑된 ZnO(AZOB)를 Al2O3와 B2O3의 양의 변화를 주어 분무열분해법, 후소성 및 습식 볼밀링에 의해 합성하고 합성된 AZOB 분말의 SEM 이미지에서의 모폴로지 변화와 Debye-Scherrer 식에 의한 결정면 크기의 변화 및 전기적 특성을 조사하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
ITO가 LCD의 코팅 막으로 사용된 이유는? 특히 LCD에 사용되는 투명전극은 비저항이 1x10-3 Ω/cm 이하, 면저항이 103 Ω/sq이하로 전기전도성이 우수하고 380 nm에서 780nm의 가시광선 영역에서 투과율이 80% 이상이라는 두가지 성질을 만족하는 물질이다. 이러한 TCO재료 중 ITO는 가시광선 영역의 스펙트럼에서 높은 투과율과 낮은 저항을 나타내어 LCD의 구조적, 기능적 코팅 막으로 사용되어 왔다. 최근 정보화시대에 들어서면서 급격한 산업화에 의한 화석에너지의 고갈과 환경문제에 대한 해결방안으로 신·재생에너지 개발에 대한 연구가 활발히 진행 중이다.
투명 전도막으로 ITO를 사용할 때의 문제점은? 대표적인 투명 전도막으로 주석이 도핑된 인듐산화물(indium tin oxide, ITO)이 주로 사용되고 있다. 그러나 ITO의 경우 광학적 성질과 전기적 특성이 우수하나 수소 플라즈마에 노출되면 환원에 의한 열화가 발생되는 문제가 있고 원료 물질인 인듐의 경우 희토류에 속하는 물질이라 고가인 단점이 있다. 또한 독성, 저온증착의 어려움, 스퍼터링 시 음이온 충격에 의한 막 손상으로 저항의 증가와 같은 단점을 지니고 있다. 이러한 ITO의 단점을 보완할 수 있는 새로운 재료로 SnO2나 ZnO에 적절한 불순물을 첨가한 물질들에 대한 연구가 진행 중이며 최근에는 ZnO 계열이 플라즈마 내에서 화학적 안정성이 더 우수한 것으로 보고되고 있다[1,2].
ITO는 무엇인가? ITO(indium tin oxide)는 투명하면서 전기가 통하는 투명 전도성 산화물[transparent conducting oxide(TCO)]중의 대표적인 물질이다. 모든 디스플레이어에서 필요한 것이 아니라 매트릭스 방식으로 구동되는 PDP(plasma display panel), LCD(liquid crystal display)등의 얇고 편평한 디스플레이에 사용된다.
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참고문헌 (13)

  1. M. Chen, Z. L. Pei, X. Wang, C. Sung, and L. S. Wen, "Structural, electrical, and optical properties of transparent conductive oxide ZnO : Al films prepared by dc magnetron reactive sputtering", J. Vac. Sci. Technol., 19(3), 963 (2001) 

  2. H. D. Ko, W. P. Tai, K. C. Kim, S. H. Kim, S. J. Suh, and Y. S. Kim, "Diluted magnetic semiconductor properties of Zn1-xCoxO: 1 at % Al thin films prepared by pulsed DC magnetron sputtering", J. Cryst. Growth, 277, 352 (2005) 

  3. M. Purica, E. Budianu and E. Rusu, "ZnO thin films on semiconductor substrate for large area photodetector applications", Thin Solid Films, 383, 284 (2001) 

  4. S. H. Jeong, J. W. Lee, S. B. Lee, and J. H. Boo, "Deposition of aluminum-doped zinc oxide films by RF magnetron sputtering and study of their structural, electrical and optical properties", Thin Solid Films, 435, 78 (2003) 

  5. Andreas Stadler, "Transparent Conducting Oxides An Up To Date Overview, Materials", 5, 661 (2012) 

  6. S. Fay, J. Steinhauser, N. Oliveira, E. V. Sauvain, and C. Ballif, "Opto-electronic properties of rough LP-CVD ZnO:B for use as TCO in thin-film silicon solar cells", Thin Solid Films, 515, 8558 (2007) 

  7. I. Sorara, D. Saygin-Hinczewskib, M. Hinczewskic, and F. Z. Tepehan, "Optical and structural properties of Si-doped ZnO thin films", Applied Surface Sci., 38, 2335 (2009) 

  8. P. Nunes, E. Fortunato, and R. Martins, "Influence of the post-treatment on the properties of ZnO thin films", Thin Solid Films, 383, 277 (2001) 

  9. J. Lee, D. Lee, D. Lim, and K. Yang, "Structural, electrical and optical properties of ZnO:Al films deposited on flexible organic substrates for solar cell applications", Thin Solid Films, 515, 6094 (2007) 

  10. A. Mosbah, and M. S. Aida, "Influence of deposition temperature on structural, optical and electrical properties of sputtered Al doped ZnO thin films", J. Alloys and Compounds, 515, 149 (2012) 

  11. S. H. Jung, S. M. Kong, and C. W. Chung, "Influence of Heat Treatment on the Structural, Electrical and Optical Properties of Aluminum-Doped Zinc Oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering", Current Photovoltaic Res., 1(2), 97 (2013) 

  12. A. P. Roth, J. B. Webb, and D. F. Williams, "Absorption edge shift in ZnO thin films at high carrier densities", Solid State Commun., 39, 1269 (1981) 

  13. X. Chen, W. Guan, G. Fang, and X. Z. Zhao, "Influence of substrate temperature and post-treatment on the properties of ZnO:Al thin films prepared by pulsed laser deposition", Appl. Surf. Sci., 252, 1561 (2005) 

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