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태양전지용 웨이퍼의 오염 분석 및 세정에 관한 연구
A Study on Solar Cell Wafer Contamination Diagnostic and Cleaning 원문보기

Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers = 전자공학회논문지, v.51 no.8, 2014년, pp.23 - 29  

손영수 (한국기계연구원 첨단생산장비연구본부) ,  함상용 (한국기계연구원 첨단생산장비연구본부) ,  채상훈 (호서대학교 전자공학과)

초록
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실리콘 태양전지 제조에 기판으로 사용되는 156 mm 실리콘 웨이퍼의 제작 공정에 있어서 제품 불량 및 성능 저하를 유발하는 웨이퍼 표면 오염원을 분석하였으며, 이를 제거하기 위한 오존수 세정에 대하여 실험하였다. 오염물질은 웨이퍼 절단 공정에서 사용되는 슬러리 및 세척액 속에 포함된 유기물과 소잉 와이어로부터 분리된 미세입자에 의해 형성되며, 오존수 세정공정을 통하여 제거할 수 있었다. 이 기술을 적용하면 태양전지용 웨이퍼를 저렴하고 효율적이며 친환경적으로 제조할 수 있다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We have studied on ozonate water cleaning mechanisms to apply in manufacturing process of 156 mm silicon wafer which is used in the solar cell fabrication. We have analyzed contamination sources on wafer surface which causes poor quality and performance of products in fabrication process, and examin...

주제어

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문제 정의

  • 본 연구에서는 태양전지용 웨이퍼 제작공정의 특성을 고려하여 웨이퍼 세정 및 표면 오염원의 제거에 오존기능수(ozone functional water)를 적용함으로써 친환경적이고 저렴하면서 효과적인 오존수 세정공정 및 설비개발에 관한 연구를 수행하였다. 이를 위하여 본 연구에서는 태양전지용 웨이퍼 제작공정에서 나타나는 각종 오염물질에 대하여 분석하였으며, 이를 바탕으로 웨이퍼 세정 및 표면 오염원의 제거할 수 있는 오존 기능 수(ozone functional water) 세정 공정에 대하여 연구하였다.
  • 본 연구에서는 태양전지용 웨이퍼 제작공정의 특성을 고려하여 웨이퍼 세정 및 표면 오염원의 제거에 오존기능수(ozone functional water)를 적용함으로써 친환경적이고 저렴하면서 효과적인 오존수 세정공정 및 설비개발에 관한 연구를 수행하였다. 이를 위하여 본 연구에서는 태양전지용 웨이퍼 제작공정에서 나타나는 각종 오염물질에 대하여 분석하였으며, 이를 바탕으로 웨이퍼 세정 및 표면 오염원의 제거할 수 있는 오존 기능 수(ozone functional water) 세정 공정에 대하여 연구하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
태양전지 분야에서 주된 공정 오염은 무엇인가?   태양전지용 실리콘 웨이퍼는 단결정 및 다결정을 모두 제조되고 있으며, 제조 원가를 고려하여 공정 오염도에 대해서는 비교적 관대하게 처리되고 있다. 태양전지 분야에서의 공정 오염 결과로는 스테인(stain)으로 통칭되는 웨이퍼 표면의 변질 및 미세 파티클 (particle) 물질의 잔류가 주된 오염으로 구분되고 있다. 스테인은 웨이퍼의 절단(slicing) 공정에서 사용되는 슬러리(slurry) 속에 포함된 오염 물질의 잔류에 의해 생긴 표면 얼룩으로써 태양전지의 제조 공정이나 발전효율에 크게 영향을 주지 않으나, 웨이퍼의 상품성을 저하시키는 요소로서 작용하고 있다.
오존기능수 세정공정기술의 핵심 기술은 무엇인가? 한편, 친환경 세정공정기술 개발 방향은 습식세정공정 반응 후의 유해 배출물을 저감하거나 또는 원천적으로 무배출하기 위한 전해 이온수, 오존수 및 수소수와 같은 기능수(functional water)와 친환경 계면활성제 등의 친환경 습식 세정기술 분야와 레이저, 플라즈마, CO2, UV 등을 이용하는 건식세정기술의 두 분류로 나뉘어 활발한 연구개발이 진행되고 있다[3~5]. 이 중에서 오존기능수 세정공정기술은 초순수에 기능성 가스인 오존을 용해하여 오존이 갖는 높은 산화력을 이용하는 세정기술로서 기능성 가스인 오존을 고농도로 생성하기 위한 오존생성기술과 고농도의 오존기능수 제조기술 그리고 기능수 세정공정기술 등이 핵심기술이다.
본 연구에서 제작한 오존수 세정장치의 실리콘 태양전지 세정 원리는? 제작한 오존수 세정장치를 기반으로 실리콘 태양전지 세정을 위한 공정을 수행하였다[9]. 본 세정장치에서 세척액이나 슬러리에 의한 웨이퍼 표면의 유기오염물은 세정조 안에서 오존수의 강력한 산화반응에 의해 제거되며 소잉 와이어에 의한 철이나 크롬과 같은 파티클은 세정조 외부에 설치된 초음파나 메가소닉장치에서 생생된 초음파나 메가소닉의 진동으로 인한 물리적인 힘에 의해 제거된다. 세정 후의 웨이퍼에 대한 검사는 기본적으로 육안 검사가 선행되며, 필요에 따라 자외선이나 노란색 등 특정 파장을 가진 광원을 이용하여 스테인이나 파티클의 유무를 관찰한다.
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참고문헌 (9)

  1. H. Kim, A. Cha, J. Bae, H. Lee, M. Lee, B. Park, "A study on development of aqueous/semi-aqueous cleaning materials and application of electronic parts cleaning process", Clean Technology, Vol. 10, No. 2, pp.61-72, Oct. 2004. 

  2. S. Chai, Y. Son, "A study on photoresist strip processes using DIO3", Journal of KIEEME, Vol. 17, No. 11, pp.1143-1148, Nov. 2004. 

  3. Nelson, S., "Ozonated Water for Wafer Cleaning and Photoresist Removal," Solid State Technology, pp. 107-112, 1999. 

  4. De Gendt, S., Wauters, J. and Heyns, M., "A novel Resist and Post-Etch Residue Removal process Using Ozonated Chemistry," Solid State Technology, pp. 57-60, 1998. 

  5. Y. Son, etc, "Development of the green cleaning technology for the silicon solar wafer", Journal of KSPE Vol. 28, No. 10, pp 1-7, 2011. 

  6. U. Konelschatz, B. Eliasson and W. Egli, "Dielectric-Barrier Discharges Principle and Applications", Colloque C4, Supplement au Journal de Physique I11 d'octobre 1997. 

  7. Y. Son, S. Chai, "A study on the ozonized water production technology for the PR strip process", Journal of IEEK, Vol. 41 SD, No. 12, pp.13-19, 

  8. Rip. G. Rice, "Handbook of Ozone Technology and Applications", vol. 1, Ann Arbor Science, 2001. 

  9. S Moon, S. Chai, Y. Son, "A study on solar cell wafer cleaning using ozonate wafer", Journal of IEEK, Vol. 50 SD, No. 11, pp.2747-2753, 

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