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기판온도에 따른 IGZO 박막의 구조적 및 전기적 특성
Structural and Electrical Characteristics of IGZO thin Films deposited at Different Substrate Temperature 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.15 no.1, 2016년, pp.1 - 5  

이민규 (한국기술교육대학교 신소재공학과) ,  이규만 (한국기술교육대학교 신소재공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this study, we have investigated the effect of the substrate temperature on the characteristics of IGZO thin films for the TCO(transparent conducting oxide). For this purpose, IGZO thin films were deposited by RF magnetron sputtering at various substrate temperature (room temperature ${\sim}...

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문제 정의

  • 본 연구에서는 R.F. magnetron sputtering을 이용하여 IGZO 박막을 증착하였으며, 증착 온도 가 박막의 구조적, 전기적, 및 광학적 특성에 어떠한 영향 미치는 것인가를 규명하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
강재앵커의 파괴는 어떻게 구분되는가? 강재앵커는 선설치앵커와 후설치앵커가 있으며 대형 강재기둥이나 기기 등은 선설치앵커로 콘크리트 기초에 정착 시키는 것이 일반적이다. 인장 또는 전단하중을 받는 강재앵커의 파괴는 앵커 자체의 연성파괴(ductile failure)와 콘크 리트 소성파괴(plastic failure)로 구분할 수 있으며, 콘크리트의 파괴모드 중 앵커의 저항강도를 결정짓는 주요 파괴는 콘(cone) 형상으로 파괴되는 파열파괴(breakout failure)이다.
강재앵커에는 어떤 것이 있는가? 강재앵커는 선설치앵커와 후설치앵커가 있으며 대형 강재기둥이나 기기 등은 선설치앵커로 콘크리트 기초에 정착 시키는 것이 일반적이다. 인장 또는 전단하중을 받는 강재앵커의 파괴는 앵커 자체의 연성파괴(ductile failure)와 콘크 리트 소성파괴(plastic failure)로 구분할 수 있으며, 콘크리트의 파괴모드 중 앵커의 저항강도를 결정짓는 주요 파괴는 콘(cone) 형상으로 파괴되는 파열파괴(breakout failure)이다.
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참고문헌 (9)

  1. K. Ishibashi, K. Hirata, and N. Hosokawa, "Mass spectrometric ion analysis in the sputtering of oxide targets", Journal of Vacuum Science & Technology A., 10, pp.1718 (1992). 

  2. K. Tominaga, T. Ueda, T. Ao, M. Kataoka, and I. Mori, "ITO films prepared by facing target sputtering system", Thin Solid Films, 281-282, pp. 194 (1996). 

  3. Y. Hoshi, H. Kato, and K. Funatsu, "ITO films deposited by facing target sputtering", Thin Solid Films, 445, pp. 245 (2003). 

  4. N. Taga, M. Maekawa, Y. Shigesato, I. Yasui, M. Kamei and T. E. Haynes, "Deposition of Heteroepitaxial $In_2O_3$ Thin Films by Molecular Beam Epitaxy", Jpn. J. Appl.Phys., 37, pp. 6524 (1998) 

  5. C. Nunes de Carvalho, A. M. Botelho do Rego, A. Amaral, P. Brogueira and G. Lavareda, "Effect of substrate temperature on the surface structure, composition and morphology of indium-tin oxide films", Surface and Coatings Technology, 124, 70 (2000). 

  6. Takafumi Aoi, Nobuto Oka, Yasushi Sato, Ryo Hayashi, Hideya Kumomi and Yuzo Shigesato. "DC sputter deposition of amorphous indium-galliumzinc- oxide(a-IGZO) films with $H_2O$ introduction", Thin Solid Films, 518, pp. 3004 (2010) 

  7. H. Hosono, "Ionic amorphous oxide semiconductors: Material design, carrier transport, and device application", Journal of non-crystalline solids, 352, pp. 851 (2002). 

  8. K. Nomura, T. Kamita and H. Hosono, "Effects of diffusion of hydrogen and oxygen on electrical properties of amorphous oxide semiconductor, In-Ga-Zn-O", ECS J Solid State Sci. Technol. 2, p. 5 (2013) 

  9. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, "Room-temperature fabrication of transparent flexible thin-film transistors using amorphous oxide semiconductors," Nature, 432, no. 7016, pp. 488 (2004) 

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