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For high volume manufacturing using extreme ultraviolet (EUV) lithography, mask protection from contamination during lithography process must be solved, and EUV pellicle is the strongest solution. Based on the technical requirements of EUV pellicle, EUV pellicle should have large membrane area (

주제어

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문제 정의

  • 본 논문에서는 펠리클 박막의 기계적 안정성 조건 중에서도 노광기 내 스테이지 가속도 조건 100 m/s2에대한 안정성을 스핀코터를 사용하여 유추적으로 확인 하는 방법을 제시한다. 스핀코터는 원운동으로 진행되지만, 이를 각 지점에서의 선형적 운동으로 해석하여 펠리클의 가속도 안정성을 확인하는 실험을 진행하였다.
  • 더불어 구심가속도이기에 발생할 수 있는 펠리클 면적 내부 가속도의 분포 계산을 통해 실험의 신뢰성을 보완해주었다. 본 연구에서는 물리적 공식을 통해 구심가속도를 선형적으로 분석한 스핀코터를 이용한 펠리클 박막의 가속도 안정성 확인 실험을 설계하였고, 이 실험은 다양한 펠리클 박막에 있어서도 공통적으로 사용할 수 있는 실험이라는 점에서 그 의의를 찾을 수 있다.
  • 또한, 최대와 최소 가속도 차이가 가장 작게 하기 위해 회전축과 펠리클 박막의 최단거리와 최대거리 차이를 최대한 작게 놓아야 하고, 이 때 위치는 운동 궤도의 접선에 펠리클 박막의 한 면이 있을 때이다. 이와 같이 수식을 계산하여 회전 시 받는 펠리클 박막 내부의 가속도 분포를 확인하며, 이를 바탕으로 스핀코터로 펠리클의 기계적 안정성 평가의 가능성을 확인하였다.

가설 설정

  • 953 이하를 가져야 한다. 접선가 속도를 구하는 공식에 의해 초 당 rpm의 변화가 91.1이하이면, 그 크기 값이 구심가속도에 비해 1% 이하를 가짐으로 이를 무시하고 구심가속도만 존재한다고 가정할 수 있다. 이 크기는 가속과 감속 구간에서 접선의 기울기를 의미한다.
  • 1은 예상되는 실험 모식도로 위에서 본 이미지를 나타낸다. 펠리클 샘플은 스핀 코터의 중심축으로부터 특정한 거리에 위치하며, 펠리클은 프레임 위에 박막이 부착되어 있는 구조를 가정 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
극자외선 노광 기술의 특성은 무엇인가? 극자외선 노광 기술 (EUV lithography, EUVL)은 가장 유력한 차세대 노광기술로서, 기존 ArF 노광 기술에 사용되는 파장보다 14배 짧아진 파장을 사용하기 때문에 해상력을 향상시킬 수 있지만, 이와 동시에 대부분의 물질에 흡수가 잘 되는 특성을 갖게 되며 기존 노광공정과 대비하여 노광공정 중 발생하는 마스크 오염 방지의 필요성이 크게 대두되었다[1-3]. 펠리클은 오염물질로부터 마스크를 보호하여 마스크 수명을 증가시키고, 오염물질이 펠리클에 흡착되었을 경우 오염물질로 인한 패턴 이미지의 초점을 웨이퍼 위 감광제면에서 벗어나게 만든다[4-6].
펠리클의 장점은 무엇인가? 극자외선 노광 기술 (EUV lithography, EUVL)은 가장 유력한 차세대 노광기술로서, 기존 ArF 노광 기술에 사용되는 파장보다 14배 짧아진 파장을 사용하기 때문에 해상력을 향상시킬 수 있지만, 이와 동시에 대부분의 물질에 흡수가 잘 되는 특성을 갖게 되며 기존 노광공정과 대비하여 노광공정 중 발생하는 마스크 오염 방지의 필요성이 크게 대두되었다[1-3]. 펠리클은 오염물질로부터 마스크를 보호하여 마스크 수명을 증가시키고, 오염물질이 펠리클에 흡착되었을 경우 오염물질로 인한 패턴 이미지의 초점을 웨이퍼 위 감광제면에서 벗어나게 만든다[4-6]. 이와 같이 펠리클은 오염물질로 인한 공정 수율 감소를 막아주므로 극자외선 노광 공정 양산에도 적용이 고려되고 있다[7].
시간에 따라 동일한 각속도를 갖는다면 원형운동을 하는 샘플은 회전축 중심방향으로 작용하는 구심가속도만 받게 되는 이유는? 식 2와 같이 원 운동하는 샘플의 총 가속도는 샘플에 가해지는 가속도들의 벡터 합이며, 이를 방향에 따라 구분하면 구심가속도( 방향)와 접선가속도( 방향) 의 벡터 합으로 나타낼 수 있다. 구심가속도 크기는 회전축과의 거리와 각속도 제곱 값 간의 곱으로 표현할수 있으며, 방향은 원의 중심방향으로 작용한다. 접선가속도 크기는 회전축에서의 거리와 시간에 따른 각속도 변화 값 간의 곱으로 정의된다. 그러므로 시간에 따라 동일한 각속도를 갖는다면 원형운동을 하는 샘플은 회전축 중심방향으로 작용하는 구심가속도만 받게 된다.
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참고문헌 (13)

  1. B. Wu and A. Kumar, "Extreme ultraviolet lithography: A review", J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 25, No.6, pp. 1743-1761, (2007). 

  2. H. Meiling, V. Banine, P. Kurz, N. Harned. "Progress in the ASML EUV program", Proc. of SPIE, Vol. 5374, Issue PART 1, pp. 31-42, (2004). 

  3. I. S. Kim, J. W. Kim and H. K. Oh, "Study of temperature behaviors for a pellicle in extreme-ultraviolet lithography: Mesh structure", Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 52, No. 12, 126506 (2013). 

  4. K.H. Ko, G.J. Kim, M. Yeung, E. Garouch and H.K. oh, "Imaging performance of mesh supported pellicle for extreme ultraviolet lithography", Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 53, No. 6, 06JA02 (2014). 

  5. L. Scaccabarozzi, D. Smith, P. Rizo Diago, E. Casimiri, N. Dziomkina, and H. Meijer, "Investigation of EUV pellicle feasibility", Proc. of SPIE, Vol. 8679, Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IV, 867904, (2013). 

  6. I. Skurai, T. Shirasaki, M. Kashida, and Y.Kubota, "Pellicle for ArF excimer laser photolithography", Photomask and X-ray Mask Technology 4, Proc. of SPIE, Vol. 3748, pp. 177-187, (1999). 

  7. H. Lee, E. Kim, J. Kim, and H. OH, "Temperature Behavior of Pellicles in Extreme Ultraviolet Lithography", J. Korean Phys. Soc., Vol. 61, No. 7, pp.1093-1096, (2012). 

  8. Y. A. Shroff, M. Leeson, and P. Yan, "High transmission pellicles for extreme ultraviolet lithography reticle protection", J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 28, No.6, pp. C6E36-C6E41, (2010). 

  9. Y. A. Shroff, M. Goldstein, B. Rice, S. H. Lee, K. V. Ravi, and D. Tanzil, "EUV Pellicle Development for Mask Defect Control", Proc. of SPIE, Vol. 6151, Emerging Lithographic Technologies X, 615104, (2006). 

  10. C. Zoldesi, K. Bal, B. Blum, G. Bock, D. Brouns, F. Dhalluin, N. Dziomkina, J. Diego, A. Espinoza, J. de Hoogh, S. Houweling, M. Jansen, M. Kamali, A. Kempa, R. Kox, R. de Kruif, J. Lima, Y. Liu, H. Meijer, H. Meiling, I. van Mil, M. Reijnen, L.Scaccabarozzi, D. Smith, B. Verbrugge, L. de Winter, X. Xiong, and J. Zimmerman. "Progress on EUV pellicle development", Proc. of SPIE, Vol. 9048, Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography V, 90481N, (2014). 

  11. J. Chung, J.E. Oh and H.H. Yoo, "Non-linear vibration of a flexible spinning disc with angular acceleration", Journal of Sound and Vibration, Vol.231, No.2, pp375-391, (2000). 

  12. Ruth E. Mayagoitia, Anand V.Nene and Peter H.Veltink, "Accelerometer and rate gyroscope measurement of kinematics: an inexpensive alternative to optical motion analysis systems", Journal of biomechanics, Vol. 35, No. 4, pp.537-542, (2002). 

  13. Seppo J. Ovaska and Sami Valivita, "Angular acceleration measurement: A Review", Instrumentation and Measurement Technology Conference, IEEE Vol. 2, pp.875-880, (1998). 

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