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NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.15 no.1, 2016년, pp.56 - 64
박유라 (금오공과대학교 대학원) , 노승훈 (금오공과대학교 기계시스템공학과) , 김영조 (금오공과대학교 대학원) , 길사근 (금오공과대학교 대학원) , 김건형 (금오공과대학교 대학원) , 신윤호 (금오공과대학교 대학원)
It is generally accepted that the surface quality of wafer edge is mostly damaged by the vibrations of the edge grinding machine. The surface quality of wafer edge is supposed to be the most dominant factor of the cracks, scratches, burrs and chips on the edge surfaces, which are the main defects of...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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본 논문의 실험에서 장비의 안정화 설계안 도출 과정은? | 주파수 분석 실험 및 시뮬레이션을 통해 장비의 동 특성(고유진동수, 진동형)이 분석 되었으므로 이를 바탕으로 큰 진동의 원인이 되는 고유진동수와 작동속도 간의 공진여부와 그때의 진동형을 바탕으로 공진을 회피할 수 있는 설계 개선안을 도출하고 이 개선안을 시뮬레이션 모델에 적용하여 개선효과를 확인하고자 하며, 이 과정을 거쳐 장비의 안정화 설계안을 도출할 수 있다. | |
표면품질 제고 및 대구경화를 이루기 위해서는 반도체 웨이퍼 제조 장비의 진동 제어가 필수적인 이유는? | 현재 국내 제조업 중 국제적 경쟁력을 가지고 있는 반도체 분야의 핵심화두는 웨이퍼의 표면품질과 대구 경화이다. 표면품질의 제고를 위해서는 진동의 억제가 필수적이며, 대구경화가 진행되면 일반적으로 지름의 세제곱에 비례하여 진동이 커지게 된다. 따라서 표면품질 제고 및 대구경화를 이루기 위해서는 반도체 웨이퍼 제조 장비의 진동 제어가 필수적이다. | |
현재 국내 제조업 중 국제적 경쟁력을 가지고 있는 반도체 분야의 핵심화두는? | 현재 국내 제조업 중 국제적 경쟁력을 가지고 있는 반도체 분야의 핵심화두는 웨이퍼의 표면품질과 대구 경화이다. 표면품질의 제고를 위해서는 진동의 억제가 필수적이며, 대구경화가 진행되면 일반적으로 지름의 세제곱에 비례하여 진동이 커지게 된다. |
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