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반도체 Wafer용 Edge Grinding Machine의 구조 안정화를 위한 설계 개선
Design Alterations of a Semiconductor Wafer Edge Grinder for the Improved Stability 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.15 no.1, 2016년, pp.56 - 64  

박유라 (금오공과대학교 대학원) ,  노승훈 (금오공과대학교 기계시스템공학과) ,  김영조 (금오공과대학교 대학원) ,  길사근 (금오공과대학교 대학원) ,  김건형 (금오공과대학교 대학원) ,  신윤호 (금오공과대학교 대학원)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

It is generally accepted that the surface quality of wafer edge is mostly damaged by the vibrations of the edge grinding machine. The surface quality of wafer edge is supposed to be the most dominant factor of the cracks, scratches, burrs and chips on the edge surfaces, which are the main defects of...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구는 반도체 Edge grinding machine의 주파수 분석 실험 및 컴퓨터 시뮬레이션을 통하여 진동의 원인 및 문제점을 분석하고 이를 바탕으로 설계 개선안을 도출 및 적용하여 그 효과를 확인하는 과정을 거쳐 장비의 안정성을 높이고 Edge grinding시의 불량률을 낮추고자 하였다. 본 연구의 결과를 요약하면 다음과 같다.
  • 따라서 표면품질 제고 및 대구경화를 이루기 위해서는 반도체 웨이퍼 제조 장비의 진동 제어가 필수적이다. 본 연구에서는 Edge grinding machine 가공 중 장비의 진동을 최소화하고 가공품질을 향상시키는 것을 목표로 하며 이를 통해 Edge grinding machine의 안정화설계안을 도출하고자 한다.
  • 본 장비의 6차 진동형과 Spindle(#2)와의 작동속도(41.67 Hz)로 인한 공진을 회피하기 위해 공압/대기 Unit의 설계변경을 통해 이를 개선하고자 한다. 본 장비의 6차 진동형의 경우 공압/대기 Unit의 Y방향 진동이므로 Fig.
  • 실험 및 시뮬레이션을 통하여 얻어진 고유진동수를 비교한 결과 Table 4에서 볼 수 있듯 두 경우 최대 오차가 5% 수준이므로 실험 결과와 시뮬레이션에 의한 분석 결과가 잘 일치하는 것으로 판단된다. 시뮬레이션 모델이 실제 장비의 특성을 잘 반영하고 있으므로 이 모델을 이용하여 설계 개선을 진행하고자 한다.
  • 본 장비의 2차 진동형은 Wash/Dry 부의 X방향 Bending이며, 5차 진동형은 Wash/Dry 부의 Torsion에 해당된다. 실험 및 시뮬레이션을 통해 Wash/Dry 부의 지지대 강성이 약하여 진동이 커지고 이 진동이 장비 전체에 악영향을 미칠 수 있으므로 지지대의 강성을 강화하여 Wash/Dry 부의 진동을 억제하고자 한다. 이를 해결하기 위해 아래 Fig.
  • 주파수 분석 실험 및 시뮬레이션을 통해 장비의 동 특성(고유진동수, 진동형)이 분석 되었으므로 이를 바탕으로 큰 진동의 원인이 되는 고유진동수와 작동속도 간의 공진여부와 그때의 진동형을 바탕으로 공진을 회피할 수 있는 설계 개선안을 도출하고 이 개선안을 시뮬레이션 모델에 적용하여 개선효과를 확인하고자 하며, 이 과정을 거쳐 장비의 안정화 설계안을 도출할 수 있다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
본 논문의 실험에서 장비의 안정화 설계안 도출 과정은? 주파수 분석 실험 및 시뮬레이션을 통해 장비의 동 특성(고유진동수, 진동형)이 분석 되었으므로 이를 바탕으로 큰 진동의 원인이 되는 고유진동수와 작동속도 간의 공진여부와 그때의 진동형을 바탕으로 공진을 회피할 수 있는 설계 개선안을 도출하고 이 개선안을 시뮬레이션 모델에 적용하여 개선효과를 확인하고자 하며, 이 과정을 거쳐 장비의 안정화 설계안을 도출할 수 있다.
표면품질 제고 및 대구경화를 이루기 위해서는 반도체 웨이퍼 제조 장비의 진동 제어가 필수적인 이유는? 현재 국내 제조업 중 국제적 경쟁력을 가지고 있는 반도체 분야의 핵심화두는 웨이퍼의 표면품질과 대구 경화이다. 표면품질의 제고를 위해서는 진동의 억제가 필수적이며, 대구경화가 진행되면 일반적으로 지름의 세제곱에 비례하여 진동이 커지게 된다. 따라서 표면품질 제고 및 대구경화를 이루기 위해서는 반도체 웨이퍼 제조 장비의 진동 제어가 필수적이다.
현재 국내 제조업 중 국제적 경쟁력을 가지고 있는 반도체 분야의 핵심화두는? 현재 국내 제조업 중 국제적 경쟁력을 가지고 있는 반도체 분야의 핵심화두는 웨이퍼의 표면품질과 대구 경화이다. 표면품질의 제고를 위해서는 진동의 억제가 필수적이며, 대구경화가 진행되면 일반적으로 지름의 세제곱에 비례하여 진동이 커지게 된다.
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참고문헌 (9)

  1. Ro S. H. : Mechanical Vibrations with Applications, (2011) 

  2. Fertis D. G. : Mechanical and Structural Vibration, John Wiley &sons, Inc, New York, pp. 197-241, (1995) 

  3. D. J. Ewins : Modal Testing, Br el & Kjaer, (1986) 

  4. R. B. Randall and B. Tech., B. A : Frequency Analysis, Br el & Kjaer, (1977) 

  5. Kenneth G. McConnell : Vibration Testing, John Wiley & sons, Inc., New York, (1995) 

  6. Havosen, W. G. and D. L. Brown, Journal of Sound and Vibration, Nov, 8, (1977) 

  7. Ro S. H., Cho H. J. and Choi E. H. Trans. Of the KSME (A), 24, 8, 1978, (2000) 

  8. Cho H. J. and Ro S. H., Trans. Of the KSME (A), 23, 4, 697, (1999) 

  9. Raialingham C., Bhat R. B. and Xistris G. D., 1996, "Vibration of Rectangular Plates using Plate Characteristic Functions as Shape Functions in the Rayleigh- Ritz Method", Journal of Sound and Vibration, Vol. 193, No. 2, pp. 497-509. 

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