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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.29 no.8, 2016년, pp.455 - 460
박석기 (충남대학교 에너지과학기술대학원) , 이정인 (한국에너지기술연구원 태양광연구실) , 강민구 (한국에너지기술연구원 태양광연구실) , 강기환 (한국에너지기술연구원 태양광연구실) , 송희은 (한국에너지기술연구원 태양광연구실) , 장효식 (충남대학교 에너지과학기술대학원)
A textured front surface is required in high efficiency silicon solar cells to reduce reflectance and to improve light trapping. Wet etching with alkaline solution is usually applied for mono crystalline silicon solar cells. However, alkali texturing method is not appropriate for multi-crystalline s...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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RF power가 증가할수록 표면 구조가 침상 형태가 되는데 이는 후속 공정에 어떤 영향을 미칠 수 있는가? | 즉, 텍스쳐된 구조의 높이가 높고 기울기가 클수록 표면 반사율이 감소하고, RF power가 250 W일 때 표면 조직화된 실리콘웨이퍼의 평균 반사도는 6%로 가장 낮음을 확인하였다. 하지만, 이러한 침상 형태의 표면 구조는 반사도의 감소에는 긍정적인 영향을 미치지만, 후속 공정인 PN 접합 공정에서는 불균일한 에미터층을 형성시킴으로써 반사방지막 공정에 영향을 주어 전극형성 및 소성과정 후 누설전류를 발생시킬 수 있다. 따라서, 이를 확인하기 위해 양면에 RIE 처리 및 실리콘 질화막을 증착하여 열처리 후의 반송자 수명을 측정하였다. | |
습식 식각법에서 식각 속도와 표면 조직화에 변화를 주려면 어떤 것을 변화시켜야 하는가? | 습식 식각법은 HNO3와 HF의 농도를 변화시킴으로써 식각 속도와 표면 조직화에 변화를 줄 수 있다. 농도를 변화시키기 위해서는 H2O를 이용하여 HNO3의 농도를 희석시키고, CH3COOH를 이용하여 HNO3의 분해를 감소시켜 식각 속도에 영향을 줄 수 있다. | |
건식 식각법은 무엇인가? | 한편, 건식 식각법은 반응성 증기나 전기적으로 분해된 가스를 이용하여 물질을 선택적으로 제거하는 방법이다. 이를 위해 진공상태에서 반응기 안에 SF6가스와 O2가스를 주입시킨 후 플라즈마를 형성시키는데, 이의 화학 반응식은 아래와 같다 [4]. |
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D. H. Macdonald, A. Cuevas, M. J. Kerr, C. Samundsett, D. Rudy, S. Winderbaum, and A. Leo, Sol. Energy, 76, 277-283 (2004). [DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.solener.2003.08.019]
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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