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SnO2 박막의 열처리온도에 따른 결정성과 전기적인 특성 연구
Study on Electrical Properties and Structures of SnO2 Thin Films Depending on the Annealing Temperature 원문보기

Industry promotion research = 산업진흥연구, v.1 no.2, 2016년, pp.7 - 11  

연수지 (청주대학교 반도체공학과) ,  이승희 (청주대학교 반도체공학과) ,  오데레사 (청주대학교 반도체공학과)

초록
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$SnO_2$ 박막의 결정성과 화학적인 결합구조의 변화가 전기적인 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 증착한 $SnO_2$결정질 특성을 가지며 열처리온도가 증가함에 따라 비정질 특성으로 변하였으며, 산소공공의 함량변화는 열처리 온도가 증가할수록 증가하였다가 감소하였다. 산소공공이 증가하면 결정성이 증가하다가 산소공공이 감소하기 시작하면 비정질특성이 우세하게 나타났다. 이러한 결정성에서 비정질로 변화하는 특성의 차이는 PL 분석에 의한 광학적 특성에서 뚜렷하게 나타났으며, 100도와 150도 열처리를 한 박막에서 가장 큰 차이가 나는 것을 보여주었다. XRD 분석보다는 $SnO_2$ 결정구조의 변화에 대하여 광학적인 특성변화에서 더 뚜렷하게 나타난 이유는 케리어의 이온화에 의한 광학적 여기량이 150도 열처리에서 크게 증가하였기 때문이며, 더 높은 온도에서는 광학적 여기량이 감소한 이유는 산소공공에 의한 케리어가 많지 않았기 때문으로 확인할 수 있다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

$SnO_2$ films were annealed in a vacuum atmosphere conditions to research the temperature dependency of current-voltage characteristics, crystal structure and chemical properties. The $SnO_2$ film annealed in a vacuum became an amorphous structure, but the degree of amorphous s...

주제어

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문제 정의

  • 본 논문에서는 ITO 유기 기판 위에 SnO2 박막을 증착하여, 열처리온도에 따른 결정성, 산소관련 결합에너지의 변화로부터 전기적인 특성이 어떻게 변화하는가를 관찰하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
p형의 산화물반도체물질은 무엇들이 있는가? p형의 반도체 물질과 n형의 반도체물질들을 이용하여 pn접합을 만들어 실리콘 반도체와 유사한 접합을 이용하여 여러 가지 디바이스를 만들어내는 기술이다.[7-13] p형의 산화물반도체물질은 흔하지 않으며, CuO과 SnO2가있으며, 대부분의 산화물반도체 물질들이 n형의 산화물반도체물질에 해당한다. 따라서 AZO, ZTO, GZO, IGZO, IZO 및 ZnO 등이 이에 해당한다.
n형의 산화물반도체물질에는 무엇들이 있는가? [7-13] p형의 산화물반도체물질은 흔하지 않으며, CuO과 SnO2가있으며, 대부분의 산화물반도체 물질들이 n형의 산화물반도체물질에 해당한다. 따라서 AZO, ZTO, GZO, IGZO, IZO 및 ZnO 등이 이에 해당한다. 여기서 n형의 산화물반도체물질들을 다시 나눈다면 비정질물질과 결정질물질로 나눌 수 있다.
산화물반도체는 어떤 종류가 있는가? [1-6] 그 중에 하나가 산화물반도체기술이다. 실리콘 반도체와 마찬가지로 산화물반도체는 p형의 산화물반도체물질과 n형의 반도체물질들이 있다. p형의 반도체 물질과 n형의 반도체물질들을 이용하여 pn접합을 만들어 실리콘 반도체와 유사한 접합을 이용하여 여러 가지 디바이스를 만들어내는 기술이다.
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참고문헌 (26)

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  2. Young Deuk Ann, Jae Ho Yeon and Teresa Oh, "Comparison between the Electrical Properties and Structures after Atmosphere Annealing and Vaccum Annealing of IGZO Thin Films," Industry Promotion Research, Vol. 1, pp. 1-6, 2016. 

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  24. Teresa Oh, "Analysis of Electrical Characteristics of Oxide Semiconductor of ZnO, SnO2 and ZTO", Korean Journal of Materials Research, Vol. 25, pp. 347-349, 2016. 

  25. Meng Yu and Jungyol Jo, "Sputtering Growth of ZnO Thin-Film Transistor Using Zn Target", The Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers, September Vol. 13, pp. 35-38, 2014. 

  26. H. M. Kim and J. J. kim, "Heat Treatment Effects on the Electrical Properties of In2O3-ZnO Films Prepared by RF-Magnetron Sputtering Method," J. Korean Vacuum Society, Vol. 14, pp. 238-244, 2005. 

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