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CrN coatings have been used as protective coatings for cutting tools, forming tools, and various tribological machining applications because these coatings have high hardness. Cr-Al-N coatings have been investigated to improve the properties of CrN coatings. Cr-Al-N coatings were fabricated by a hyb...

주제어

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문제 정의

  • 공정압력의 변화와 바이어스 전압의 코팅의 상형성과 미세구조 형성에 미치는 영향에 대한 것은 참고논문 25에서 다루었다. 본 논문에서는 공정압력의 변화와 바이어스 전압이 코팅막의 경도, 탄성계수, 부착력, 마찰마모의 기계적 특성에 미치는 영향을 고찰하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
정밀 기계 산업 및 이와 관련된 가공 기술에서 무엇이 요구되는가? 정밀 기계 산업 및 이와 관련된 가공 기술에서는 가격절감과 고효율, 고품질과 생산성이 요구되며, 이와 더불어 현대에 이르러서는 지속가능한 사회를 위한 관심이 높아지면서 환경 문제에 대한 대응 요구도 급증하고 있다. 최근에 정밀 기계 산업에서 기계 가공에 사용되는 절삭유와 같은 오염물질을 감소시키기 위한 최소윤활(minimum quantity lubrication) 가공 및 건식 가공(dry machining)과 같은 방법이 제기되고 있으며, 가공법의 변화에 따라 높은 마찰력의 가혹한 작동환경에서 장시간 사용할 수 있는 가공용 코팅 소재에 대한 연구가 이루어지고 있다[1,2].
CrN의 단점은 무엇인가? 주로 사용되는 코팅소재로는 CrN 이 있으며, CrN은 고경도, 내마모 특성을 갖기 때문에 절삭공구와 같이 기계 가공 산업에서 사용되고 있다[3,4]. 하지만 20 GPa 수준의 낮은 경도를 갖고 600oC 이상에서 취약한 산화저항성을 나타낸다[5]. 따라서 이러한 CrN의 경도, 산화저항성, 내마모와 같은 기계적 특성을 향상시키 위해 Si, Nb, C, Al 등과 같은 원소를 첨가한 복합조성에 대한 연구가 이루어져 왔다[6].
물리기상증 착법(PVD)에는 무엇이 있는가? 하드코팅박막 증착에 주로 사용되는 물리기상증 착법(PVD)은 증발증착법, 이온플레이팅, 스퍼터링법 등이 있다. 아크이온플레이팅은 아크방전을 이용해 타겟으로부터 증착 입자를 증발시키며, 국부적으로 집중되는 높은 에너지에 의해 소스로부터 droplet이 형성된다[7,8].
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참고문헌 (30)

  1. S. Veprek and M. J. Veprek-Heijman, Industrial applications of superhard nanocomposite coatings, Surf. Coat. Technol. 202 (2008) 5063-5073. 

  2. K.-D. Bouzakis, N. Michailidis, S. Gerardis, G. Katirtzoglou, E. Lili, M. Pappa, et al., Correlation of the impact resistance of variously doped CrAlN PVD coatings with their cutting performance in milling aerospace alloys, Surf. Coat. Technol. 203 (2008) 781-785. 

  3. R. Gahlin, M. Bromark, P. Hedenqvist, S. Hogmark, and G. Hakansson, Properties of TiN and CrN coatings deposited at low temperature using reactive arc-evaporation, Surf. Coat. Technol. 76 (1995) 174-180. 

  4. G. Bertrand, H. Mahdjoub, and C. Meunier, A study of the corrosion behaviour and protective quality of sputtered chromium nitride coatings, Surf. Coat. Technol. 126 (2000) 199-209. 

  5. Y. Chim, X. Ding, X. Zeng, and S. Zhang, Oxidation resistance of TiN, CrN, TiAlN and CrAlN coatings deposited by lateral rotating cathode arc, Thin Solid Films, 517 (2009) 4845- 4849. 

  6. M. S. Kang, T.-g. Wang, J. H. Shin, R. Nowak, and K. H. Kim, Synthesis and properties of Cr- Al-Si-N films deposited by hybrid coating system with high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) and DC pulse sputtering, Trans. Nonferrous Met. Soc. China, 22 (2012) s729-s734. 

  7. M. Li and F. Wang, Effects of nitrogen partial pressure and pulse bias voltage on (Ti, Al) N coatings by arc ion plating, Surf. Coat. Technol. 167 (2003) 197-202. 

  8. X. Wan, S. Zhao, Y. Yang, J. Gong, and C. Sun, Effects of nitrogen pressure and pulse bias voltage on the properties of Cr-N coatings deposited by arc ion plating, Surf. Coat. Technol. 204 (2010) 1800-1810. 

  9. M. Huang, G. Lin, Y. Zhao, C. Sun, L. Wen, and C. Dong, Macro-particle reduction mechanism in biased arc ion plating of TiN, Surf. Coat. Technol., 176 (2003) 109-114. 

  10. E. Fornies, R. E. Galindo, O. Sanchez, and J. Albella, Growth of CrN x films by DC reactive magnetron sputtering at constant N 2/Ar gas flow, Surf. Coat. Technol., 200 (2006) 6047-6053. 

  11. J. Bujak, J. Walkowicz, and J. Kusinski, Influence of the nitrogen pressure on the structure and properties of (Ti, Al) N coatings deposited by cathodic vacuum arc PVD process, Surf. Coat. Technol. 180 (2004) 150-157. 

  12. W.-D. Munz, D. Schulze, and F. Hauzer, A new method for hard coatings: ABSTM (arc bond sputtering), Surf. Coat. Technol. 50 (1992) 169-178. 

  13. D. M. Mattox, Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing: William Andrew (2010). 

  14. S.-Y Chun, Microstructure and mechanical properties of nanocrystalline TiN films through increasing substrate bias, J. Korean Ceram. Soc., 47 (2010) 479-484. 

  15. H.W. Ryu, G.P. Choi, W.-S. Noh, Y.-J. park, and J.S. Park Effect of oxygen flow ratio on the crystallographic orientation of NiO Thin films deposited by RF magnetron sputtering, J. Korean Ceram. Soc., 41 (2004) 106-110. 

  16. J. Musil and S. Kadlec, Reactive sputtering of TiN films at large substrate to target distances, Vacuum, 40 (1990) 435-444. 

  17. T. Elangovan, P. Kuppusami, R. Thirumurugesan, V. Ganesan, E. Mohandas, and D. Mangalaraj, Nanostructured CrN thin films prepared by reactive pulsed DC magnetron sputtering, Mater. Sci. Eng. B, 167 (2010) 17-25. 

  18. S.-K. Tien, C.-H. Lin, Y.-Z. Tsai, and J.-G. Duh, Effect of nitrogen flow on the properties of quaternary CrAlSiN coatings at elevated temperatures, Surf. Coat. Technol. 202 (2007) 735- 739. 

  19. M. Egawa, K. i. Miura, M. Yokoi, and I. Ishigami, Effects of substrate bias voltage on projection growth in chromium nitride films deposited by arc ion plating, Surf. Coat. Technol. 201 (2007) 4873-4878. 

  20. G. Contoux, F. Cosset, A. Celerier, and J. Machet, Deposition process study of chromium oxide thin filmsobtained by dc magnetron sputtering, Thin Solid Films, 292 (1997) 75-84. 

  21. B. Bhushan, Development of rf sputtered chromium oxide coating for wear application, Thin Solid Films, 64 (1979) 231-241. 

  22. I.-W. Park, D. S. Kang, J. J. Moore, S. C. Kwon, J. J. Rha, and K. H. Kim. Microstructures, mechanical properties, and tribological behaviors of Cr-Al-N, Cr-Si-N, and Cr-Al-Si-N coatings by a hybrid coating system. Surf. coat. Technol. 201 (2007) 5223-5227. 

  23. J.-W. Lee, S.-K. Tien, and Y.-C. Kuo, The effects of pulse frequency and substrate bias to the mechanical properties of CrN coatings deposited by pulsed DC magnetron sputtering, Thin Solid Films, 494 (2006) 161-167. 

  24. H.-S. Jang, Y.-S. Kim, J.-H. Lee, H.-G. Chun, Y.- Z. You, and D.-I. Kim, Effect of Substrate Bias Voltage on the Growth of Chromium Nitride Films, Korean J. Mater. Res., 17 (2007) 618-621. 

  25. S.A. Choi, S.W. Kim, S.M. Lee, H.T Kim, and Y.S Oh, Effect of Working Pressure and Substrate Bias on Phase Formation and Microstructure of Cr-Al-N Coatings, J. Korean Ceram. Soc., 54 (2017) 511-517. 

  26. D. Mercs, N. Bonasso, S. Naamane, J.M. Bordes, C. Coddet, Mechanical and Tribological Properties of Cr-N and Cr-Si-N coatings reactively sputter deposited, Surf. Coat. Technol. 200 (2005) 403-407. 

  27. A. Lasalmonie and J. Strudel, Influence of grain size on the mechanical behaviour of some high strength materials, J. Mater. Sci. 21 (1986) 1837- 1852. 

  28. Y. Chunyan, T. Linhai, W. Yinghui, W. Shebin, L. Tianbao, and X. Bingshe, The effect of substrate bias voltages on impact resistance of CrAlN coatings deposited by modified ion beam enhanced magnetron sputtering, Applied Surface Science, 255 (2009) 4033-4038. 

  29. M. Egawa, K. i. Miura, M. Yokoi, and I. Ishigami, Effects of substrate bias voltage on projection growth in chromium nitride films deposited by arc ion plating, Surface and Coatings Technology, 201 (2007) 4873-4878. 

  30. M. Li and F. Wang, Effects of nitrogen partial pressure and pulse bias voltage on (Ti, Al) N coatings by arc ion plating, Surface and Coatings Technology, 167 (2003) 197-202. 

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