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NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.16 no.4, 2017년, pp.16 - 19
김도형 (에스에스디에이티 주식회사) , 이호덕 (에스에스디에이티 주식회사) , 권상직 (가천대학교 전자공학과) , 조의식 (가천대학교 전자공학과)
For the economical and environmental-friendly fabrication of polisher, Mo mask layer were sputtered on glass substrate instead of Cr mask material. Mo mask layers were sputtered by pulsed-DC sputtering and Photoresist patterns were formed on Mo mask layer for different develop times and optimized. A...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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기존 네일 광택기 제조방법은? | 절삭과 광택을 동시에 해결하기 위해 출현한 기존 기술의 경우, 글라스의 표면에 금속(크롬)코팅층과 감광막 코팅층을 연속으로 형성하고 패턴을 형성한 다음, 금속 식각 공정과 글라스 에칭 공정[1-3] 및 포토레지스트층을 제거하는 공정을 거쳐서 네일 광택기를 제조한다[4]. 하지만, 이 경우는 패턴이 형성된 글라스의 표면에 코팅된 금 속(Cr)이 식각 과정을 거치더라도 제거되지 않기 때문에 최종 제품에서 Cr이라는 중금속이 그대로 잔류하고, 이 부분이 손톱과 발톱을 직접 연마하여 손톱이나 발톱의 표면에 광택을 내게 되어 결국 사용자의 인체에 유해한 영향을 끼치게 된다는 문제가 있다. | |
네일 광택기를 기존 기술로 제조했을 경우 나타나는 문제점은? | 절삭과 광택을 동시에 해결하기 위해 출현한 기존 기술의 경우, 글라스의 표면에 금속(크롬)코팅층과 감광막 코팅층을 연속으로 형성하고 패턴을 형성한 다음, 금속 식각 공정과 글라스 에칭 공정[1-3] 및 포토레지스트층을 제거하는 공정을 거쳐서 네일 광택기를 제조한다[4]. 하지만, 이 경우는 패턴이 형성된 글라스의 표면에 코팅된 금 속(Cr)이 식각 과정을 거치더라도 제거되지 않기 때문에 최종 제품에서 Cr이라는 중금속이 그대로 잔류하고, 이 부분이 손톱과 발톱을 직접 연마하여 손톱이나 발톱의 표면에 광택을 내게 되어 결국 사용자의 인체에 유해한 영향을 끼치게 된다는 문제가 있다. 또한 Cr 박막을 습식 식각 공정으로 제거한다고 해도 과염소산 및 세륨암모늄 혼합 에천트를 사용하는 Cr 습식 식각 공정은 상당한 시간이 소요되어서 실제 양산 공정에 적용하는데 어려움이 있다. | |
Cr 습식 식각 공정의 문제점은? | 하지만, 이 경우는 패턴이 형성된 글라스의 표면에 코팅된 금 속(Cr)이 식각 과정을 거치더라도 제거되지 않기 때문에 최종 제품에서 Cr이라는 중금속이 그대로 잔류하고, 이 부분이 손톱과 발톱을 직접 연마하여 손톱이나 발톱의 표면에 광택을 내게 되어 결국 사용자의 인체에 유해한 영향을 끼치게 된다는 문제가 있다. 또한 Cr 박막을 습식 식각 공정으로 제거한다고 해도 과염소산 및 세륨암모늄 혼합 에천트를 사용하는 Cr 습식 식각 공정은 상당한 시간이 소요되어서 실제 양산 공정에 적용하는데 어려움이 있다. |
LV Zogheib, AD Bona, et al. "Effect of Hydrofluoric Acid Etching Duration on the Roughness and Flexural Strength of a Lithium Disilicate-Based Glass Ceramic." Brazilian Dental Journal, 22.1 (2011): 45-50.
C Iliescu, J Jing, et al. "Characterization of masking layers for deep wet etching of glass in an improved HF/HCl solution" Surface & Coatings Technology, 198.1-3 (2005): 314-318.
M Kolli, M Hamidouche, et al. "HF etching effect on sandblasted soda-lime glass properties" Journal of the European Ceramic Society, 29.13 (2009): 2697-2704.
CJ Jeong, Method for manufacturing fingernail/toenail polishing beauty apparatus capable of achieving simultaneous cutting and polishing and fingernail/toenail polishing beauty apparatus manufactured by method therefor, KR Patent, 10-2015-0002132 (2015).
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