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NTIS 바로가기세라미스트 = Ceramist, v.20 no.1, 2017년, pp.24 - 31
안은영 (부산대학교 물리학과) , 진형진 (부산대학교 물리학과)
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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에피텍셜 박막이란? | 에피텍셜 박막이란 결정화된 기판 위에 동일한 방향으로 단결정과 같이 성장시킨 박막을 말한다. 이러한 박막은, 물질 고유의 결정구조에서 비롯되는 다양한 특성을 연구할 수 있다는 장점이 있다. | |
에피텍셜 박막 연구의 장점은? | 에피텍셜 박막이란 결정화된 기판 위에 동일한 방향으로 단결정과 같이 성장시킨 박막을 말한다. 이러한 박막은, 물질 고유의 결정구조에서 비롯되는 다양한 특성을 연구할 수 있다는 장점이 있다. 즉 과거 연구 과정에서 이해하기 힘들었던 물성 향상의 원인을 구조적 관점에서 이해 함으로써 더욱 조직적이고 체계적인 연구설계가 가능하다. 또한 이를 바탕으로 새로운 물질 후보군 설정이 가능하고, 물리적 특성 변화에 대한 결과를 예측할 수 있다. 뿐만 아니라 에피텍셜 박막을 이용한 연구의 가장 큰 강점은 결정방향 제어에 있다. | |
에피텍셜 박막을 형성하는 물리적 방법에는 어떤 것들이 있는가? | 에피텍셜 박막을 형성하는 방법에는 크게 화학적 방법과 물리적 방법으로 나눌 수 있으며, 그 중 물리적 기상 증 착법(Physical Vapor Deposition, PVD) 방법은 타겟 물질을 열, 레이저, 전자빔 등을 이용해 플라즈마와 같은 기체형태로 변화시킨 후 다양한 물리적 과정을 거쳐 기판에 고체 상태로 증착하는 방법이다. 기체 형태로 변화시키는 방법에 따라서 전자 빔 증착법(E-beam evaporation), 스퍼터링(Sputtering), 펄스 레이저 증착법(Pulsed Laser Deposition, PLD) 등 다양한 방법 등이 있으며, 화학적 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 보다 낮은 온도에서 증착이 가능하고 외부 변수 조절을 통해 결정학적 면에서 높은 수준의 에피텍셜 박막을 성장시킬 수 있다는 장점이 있어 다양한 분야에서 이용되고 있는 증착법이다. |
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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