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반도체 FAB근무에 대한 정량적 노출지표 개발
Development of Quantitative Exposure Index in Semiconductor Fabrication Work 원문보기

한국산업보건학회지 = Journal of Korean Society of Occupational and Environmental Hygiene, v.27 no.3, 2017년, pp.187 - 192  

신규식 (삼성전자 건강연구소) ,  김태훈 (삼성전자 건강연구소) ,  정현희 (삼성전자 건강연구소) ,  조수헌 (삼성전자 건강연구소) ,  이경호 (삼성전자 건강연구소)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Objectives: It is difficult to identify exposure factors in the semiconductor industry due to low exposure levels to hazardous substances and because various processes take place in fabrication (FAB). Furthermore, a single worker often experiences a variety of job histories, so it is difficult to cl...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구는 FAB 내 근로자가 그 외 근로자(사무직 등)에 비해 화학물질 노출에 더 취약할 것이라는 가정 하에 FAB 근무 자체를 유해인자로 규정하고, 해당 근무기간의 양적인 개념을 갖는 FAB-Year라는 새로운 노출지표를 도입하여 역학연구에 활용 가능한지 여부를 분석하였다.
  • , 1995). 본 연구는 Hammond et al. (1995)가 제시한 노출평가 전략에서 착안하여 2, 3단계 분류의 오분류를 최소화할 수 있는 새로운 노출 지표의 필요성을 인식하였다. 즉, 노출그룹의 특이성을 높이기보다는 정확도가 높고 모호성을 최소화한 양적인 개념을 가진 노출지표를 개발하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
2분법적 분류체계의 한계점은? , 1995; Park, 2011). 하지만 이와 같은 2분법적 분류체계로는 명확하지 않은 부서가 존재하며, 과거 직무이력을 고려하지 않고 현재의 상태만을 반영하였기 때문에 오분류(misclassification)의 가능성이 높다.
한국산업안전보건공단 산업안전보건연구원에서 실시한 FAB 노출농도 평가 결과는? 미국 35개 반도체 FAB 대상 노출평가에서 공기 중 노출수준이 노출기준의 2% 이내인 것으로 보고된 바 있으며(Woskie et al., 2000), 한국산업안전보건공단 산업안전보건연구원에서 실시한 노출농도 평가 결과에서도 벤젠, 톨루엔을 포함한 총 10여종의 휘발성 유기화합물의 노출수준이 모두 노출기준의 1/100 이하였다(Park et al., 2012).
반도체산업에서 노출인자를 확인하고 SEG를 구축하려는 시도가 실제 연구로 적용되기 어려웠던 이유는? 가장 중요한 이유는 그동안의 선행 연구에서 반도체 FAB 내에 근로자의 건강장해를 유발할 수 있 는 명확한 유해인자를 찾지 못했기 때문이다. 반도체 FAB은 다수의 화학물질이 사용되고 있지만 공기 중 노출농도는 극히 낮다(Hammond et al.
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참고문헌 (12)

  1. Bower G. Ventilation studies in nonsmokers and smokers. Diseases of the chest 1961;40(4):386-390 

  2. Choi KM, Lee JE, Cho KY, Kim KS, Cho SH. Clean room structure, air conditioning and contamination control systems in the semiconductor fabrication process. J Korean Soc Occup Environ Hyg 2015;25(2):202-210 

  3. Hammond SK, Hines CJ, Hallock MF, Woskie SR, Abdollahzadeh S et al. Tiered exposure-assessment strategy in the semiconductor health study. American Journal of Industrial Medicine 1995;28(6):661-680 

  4. McElvenny D, Darnton A, Hodgson J, Clarke S, Elliott R et al. Cancer among current and former workers at National Semiconductor (UK) Ltd, Greenock. Health and Safety Executive(HSE) 2001 

  5. Kim EA, Lee HE, Ryu HW, Park SH, Kang SK. Cases series of malignant lymphohematopoietic disorder in korean semiconductor industry. Saf Health Work 2011;2(2):122-134 

  6. Marano DE, Boice JD, Munro HM, Chadda BK, Williams ME. Exposure assessment among US workers employed in semiconductor wafer fabrication. J Occup Environ Med 2010;52(11):1075-1081 

  7. Park DU. Retrospective exposure assessment of wafer fabrication workers in the semiconductor industry. J Env Hlth Sci 2011;37(1):12-21 

  8. Park DU. Review of hazardous agent level in wafer fabrication operation focusing on exposure to chemicals and radiation. J Korean Soc Occup Environ Hyg 2016;26(1):1-10 

  9. Park DU, Choi SJ, Heo JG, Roh HS, Park JH et al. Job-specific questionnaire for estimating exposure to hazardous agents among semiconductor workers. J Korean Soc Occup Environ Hyg 2016;26(1):58-63 

  10. Park SH, Chung EK, Shin JA, Lee KY, Lee NR et al. Study on characteristics of occupational environmental and hazardous materials exposure in semiconductor manufacturing workers. Occup Saf & Health Research Inst, KOSHA, 2012 

  11. Silverman NA, Alexander JC, Chretien PB. In vitro lymphocyte reactivity and T-cell levels in chronic cigarette smokers. Clin exp Immunol 1975;22(2):285-292 

  12. Woskie SR, Hammond SK, Hines CJ, Hallock MF, Kenyon E, et al. Personal fluoride and solvent exposures, and their determinants, in semiconductor manufacturing. Appl Occup Environ Hyg 2000;15:354-361 

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