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[국내논문] Photo lithography을 이용한 플라즈마 에칭 가공특성에 관한 연구
A study on processing characteristics of plasma etching using photo lithography 원문보기

한국금형공학회지 = Journal of the Korea Society of Die & Mold Engineering, v.12 no.1, 2018년, pp.47 - 51  

백승엽 (인덕대학교 기계설계과)

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

As the IT industry rapidly progresses, the functions of electronic devices and display devices are integrated with high density, and the model is changed in a short period of time. To implement the integration technology, a uniform micro-pattern implementation technique to drive and control the prod...

Keyword

#Develop   #Micro-pattern   #Photolithography   #Photoresist   #Plasma etching  

참고문헌 (6)

  1. W. K. Choi, S. H. Kim, S. G. Choi, D. S. Jin, G. C. Moon, E. S. Lee, "Study on Adhesion Improvement between Invar and Dry Film Photoresist.", Proceedings of the KSMPE Conference, 33-33, 2016. 

  2. Park, S. I., Quan, Y. J., Kim, S. H., Kim, H., Kim, S., Chun, D. M., & Ahn, S. H., "A review on fabrication processes for electrochromic devices.", International Journal of Precision Engineering and Manufacturing-Green Technology, 3(4), pp. 397-421, 2016. 

    상세보기 crossref

  3. Hyungjun Lim, Jaejong Lee, Kee-Bong Choi, Geehong Kim, Sunghwi Lee, "Technology for Roll-based Nanoimprint Lithography Systems.", Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers, 12(5), pp. 1-8, 2013. 

    원문보기 상세보기 crossref

  4. Young Jae Shin, Jeong Dae Cho, Eung Suk Lee, " Trends of Soft Lithography Technology.", Journal of the Korean Society for Precision Engineering, 20(4), pp. 5-11, 2003. 

  5. Nastaushev, Y. V., et al., "20-nm Resolution of electron lithography for the nano-devices on ultrathin SOI film.", Materials Science and Engineering: C 19.1, pp. 189-192, 2002. 

    상세보기 crossref

  6. Gerardino, A., et al., "Electron-beam lithography patterning of magnetic nickel films.", Micro-electronic engineering 57, pp. 931-937, 2001. 

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