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NTIS 바로가기Journal of sensor science and technology = 센서학회지, v.28 no.4, 2019년, pp.251 - 255
유채린 (전남대학교 기계공학부) , 이동원 (전남대학교 기계공학부)
We propose a two-step lithography process to minimize edge-bead issues caused by thick photoresist (PR) coating. In the conventional PR process, the edge bead can be efficiently removed by applying an edge-bead removal (EBR) process while rotating the silicon wafer at a high speed. However, applying...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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물방울을 떨어뜨렸을 때 고체상태의 표면은 어떻게 구분할 수 있는가? | 일반적으로 고체상태의 표면은 물방울을 떨어뜨렸을 때 물방울이 쉽게 표면으로 퍼지는 친수(hydrophilic) 표면과 표면과의 접촉각이 90도 이상인 발수(hydrophobic) 표면으로 구분할 수 있다. 발수 표면 중에서도 접촉각이 150도 이상이며, roll off 각이 10도 이하인 표면을 초발수 (superhydrophobic)표면이라고 한다. | |
PDMS 필름의 투명하고 유연한 장점을 유지하기 위해 어떤 구조로 제작하였고 이에 따른 단점은 무엇인가? | 제안된 PDMS 필름은 투명하고 유연한 장점이 있다. 이러한 장점을 유지하기 위해 구조 간격에 따른 투과도 값 비교 그래프를 통해 버섯 구조 간의 간격을 120 µm 로 제작하였으나, 넓은 구조 간격으로 인해 운동량을 지닌 물방울이 떨어질 시 간격 사이에 pinning되는 단점이 있다. 본 논문에서는 간단하게 소수성 나노실리카를 이용해, 제작된 PDMS 전면에 코팅함으로써 마이크로/나노 복합 구조를 형성하여 150도 이상의 접촉각을 갖는 초발수 PDMS필름을 제작하였다. | |
Two-step lithography방법의 장점은? | 뿐만 아니라, EB가 제거된 실리콘 웨이퍼는 마스크와 접촉 시 비교적 쉽게 분리가 되어 전체적인 공정 수율을 크게 높인다. Two-step lithography방법은 여러가지 조건의 PR의 상태, 다양한 웨이퍼의 크기에서도 사용가능하며, 특별한 장비가 요구되지 않는 장점이 있다. 또한, 현상 용액을 사용해 노광 된 부분만 PR이 제거되어 표면의 손상없이 사용 가능한 효과적인 방법으로 본 연구에서는 저온 소프트 베이킹과 부족 노광으로 제작된 두꺼운 PR 코팅의 EB제거로 실리콘 웨이퍼와 포토마스크 사이의 간격없이 완전한 접촉이 가능하다. 제작된 PDMS필름은 마이크로/나노 크기의 버섯 구조의 높은 거칠기와 균일한 구조를 갖으며 50%이상의 공정 수율을 향상 시켰다. |
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