[논문]양자우물구조에 의한 태양전지 단락전류 증가 효과와 이차이온 질량분석법에 의한 원소 정량 분석

김정환

doi:10.14478/ace.2019.1045

양자우물구조에 의한 태양전지 단락전류 증가 효과와 이차이온 질량분석법에 의한 원소 정량 분석
Effect of Short Circuit Current Enhancement in Solar Cell by Quantum Well Structure and Quantitative Analysis of Elements Using Secondary Ion Mass Spectrometry 원문보기

공업화학 = Applied chemistry for engineering, v.30 no.4, 2019년, pp.499 - 503

김정환 (세종대학교 에너지자원공학과)

초록
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GaInP/GaAs 양자우물(quantum well)구조를 N-AlGaInP/p-GaInP 이종 접합구조 태양전지에 도입하여 그 특성을 조사하고 양자우물구조가 없는 태양전지와 비교하였다. 에피층은 (100)평면이 (111)A 방향으로 $6^{\circ}$ 기울어진 p-GaAs 기판 위에 성장하였다. 태양전지 박막구조는 두께 400 nm의 N-AlGaInP 층에 590 nm의 p-GaInP와 210 nm의 GaInP/GaAs 양자 우물 구조(10 nm GaInP/5 nm GaAs의 14겹 구조)가 도입된 양자우물 태양전지 구조와 800 nm의 p-GaInP의 단일이종접합 구조로 이루어진다. 측정결과 $1{\times}1mm^2$의 태양전지에서 단락전류밀도($J_{sc}$)는 양자우물구조가 도입된 태양전지에서는 $9.61mA/cm^2$, 양자우물 구조가 없는 태양전지에서는 $7.06mA/cm^2$가 각각 측정되었다. 이차이온질량 분석법(SIMS)과 외부양자효율(external quantum efficiency) 측정을 통하여 단락전류 증가에 의한 효율증가가 흡수 스펙트럼의 확대가 아닌 양자우물에 의한 carrier 재결합의 억제에 의한 효과임을 확인하였다.

Abstract ▼ AI-Helper

Characteristics of solar cells employing a lattice matched GaInP/GaAs quantum well (QW) structure in a single N-AlGaInP/p-InGaP heterojunction (HJ) were investigated and compared to those of solar cells without QW structure. The epitaxial layers were grown on a p-GaAs substrate with $6^{\circ}$ off the (100) plane toward the A. The heterojunction of solar cell consisted of a 400 nm N-AlGaInP, a 590 nm p-GaInP and 14 periods of a 10 nm GaInP/5 nm GaAs for QW structure and a 800 nm p-GaInP for the HJ structure (control cell). The solar cells were characterized after the anti-reflection coating. The short-circuit current density for $1{\times}1mm^2$ area was $9.61mA/cm^2$ for the solar cell with QW structure while $7.06mA/cm^2$ for HJ control cells. Secondary ion mass spectrometry and external quantum efficiency results suggested that the significant enhancement of $J_{sc}$ and EQE was caused by the suppression of recombination by QW structure.

주제어

표/그림 (4)

그림 Figure 1. Schematic epitaxial layer structures of (a) N-AlGaInP/p-GaInP/p-GaAs QW structure, (b) single N-AlGaInP/p-GaInP heterojunction (control cell).
그림 Figure 2. Current density-voltage (J-V) characteristics of PV cells under a 1-sun illumination condition from 1 mm × 1 mm area devices having 20 μm width and 174 μm spacing line grids.
그림 Figure 3. Comparison of external quantum efficiencies for 5 mm × 5 mm area solar cells.
그림 Figure 4. SIMS depth profiles of (a) arsenic, (b) aluminum, (c) gallium, (d) phosphorus, (e) indium, (f) oxygen concentration for both solar cells.

AI 본문요약
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대상 데이터

The p-GaAs substrates were cut 6° off the (100) plane toward the [111]A direction. The epitaxial layer structures consist of a 200 nm p-GaAs contact layer, a 50 nm P-AlInP back surface field layer, a 590 nm p-GaInP (E_g = 1.85 eV) and 14 periods of a 10 nm p-GaInP/5 nm p-GaAs for QW structure or 800 nm p-GaInP for single heterojunction (HJ) structure (control cell), and an 400 nm N-AlGaInP (E_g = 2.2 eV) emitter layer followed by a N-AlInP window layer (E_g = 2.36 eV), and n-GaAs contact layer on top. All epilayers were lattice-matched to GaAs.
The measurement results were obtained from 1 mm × 1 mm area devices with 20 µm width and 174 µm spacing line grids.

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