[논문]O2 플라즈마 처리를 통한 Ag 나노구조체 필름의 면저항 저감

김원경; 노종욱

doi:10.6117/kmeps.2019.26.3.037

[국내논문] O2 플라즈마 처리를 통한 Ag 나노구조체 필름의 면저항 저감
Suppressed Sheet Resistance of Ag Nanostructure Films by O2 Plasma Treatment 원문보기

마이크로전자 및 패키징 학회지 = Journal of the Microelectronics and Packaging Society, v.26 no.3, 2019년, pp.37 - 41

김원경 (연세대학교 신소재공학과) , 노종욱 (경북대학교 나노소재공학부)

초록
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Ag나노와이어 도전성 잉크를 플렉서블한 투명 기판 위에 코팅 후 이러한 여분의 유기물을 $O_2$ 플라즈마를 이용하여 제거함으로써 Ag 나노와이어를 이용한 투명전극의 면저항과 광학적 특성을 최적화하였다. Ag 나노와이어 도전성 잉크를 코팅한 후 30초간 $O_2$ 플라즈마 처리를 하였을 때 면저항은 최대 27 % 정도 감소하였으며, 잔류 유기물의 제거를 통하여 그 광학적 특성도 향상됨을 알 수 있었다. 또한 $O_2$ 플라즈마 처리 시간이 30초 이상 증가할 경우 그 면저항이 오히려 감소함을 확인하였는데, 이는 과도한 $O_2$ 플라즈마로 인하여 Ag나노와이어의 degradation이 일어나는데 그 원인이 있음을 확인하였다.

Abstract ▼ AI-Helper

Sheet resistance reduction in the Ag nanowire (NW) coated films is accomplished with slight improvement of optical properties for the application of transparent conducting electrodes by using $O_2$ plasma treatment. The sheet resistance was optimized after 30 seconds $O_2$ plasma treatment, showing the 27 % of maximum decrease of sheet resistance. It is found that the $O_2$ plasma treatment get rid of the residual organic materials at the junction of Ag NWs. However, the Ag NWs may be also snapped by the excessive $O_2$ plasma treatment can showing the collapses of Ag NWs networks. Furthermore, the optical properties such as optical transmittance and haze were monotonically improved with the $O_2$ plasma treatment time until 90 seconds.

Keyword

표/그림 (5)

그림 Fig. 1. Sheet resistance change with increasing O₂ plasma treatment times. The sheet resistance were measured by the 4-point measurments.
그림 Fig. 4. The change of optical transmittance (a) and optical haze (b) in visible range with increasing O₂ plasma treatments.
그림 Fig. 2. (a) FE-SEM image of the Ag NWs after 30 sec O₂ plasma treatments and (b) FE-SEM image of the contact junction between the Ag NWs after 30 sec O₂ plasma treatments.
그림 Fig. 3. (a) FE-SEM image of the Ag NWs after 60 sec O₂ plasmatreatments. The Ag NWs were damaged by the excessive O₂ plasma treatments.
그림 Fig. 5. The photograph images of sessile drop of water on the PC substrates with various experiments condition in air.

AI 본문요약
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문제 정의

본 연구에서는 Ag 나노와이어 기반의 도전성 잉크를 플렉서블한 투명 기판 위에 코팅 후 이러한 여분의 유기물을 O₂플라즈마를 이용하여 제거함으로써 Ag나노와이어 기반 투명전극의 면저항을 최적화하고 광학적 특성을 최적화하였다. 특히 Ag 나노와이어 투명 전극 필름은 평균적으로 O₂플라즈마 처리가 이루어지지 않았을 경우보다 30초간 O₂플라즈마 처리를 하였을 경우 나노와이어간 contact사이에서 유기물이 제거됨에 따라 약 20 % 이상의 면저항 감소를 이룰 수 있었으며, 35초 이상부터는 면저항이 지속적으로 증가함을 확인할 수 있었다.
과거의 금속 나노와이어를 이용한 투명전극 연구는 나노와이어와 광학적 투과도의 반비례적 관계를 적절히 조절함으로써, 특정농도에서 전기적 전도도를 급격히 향상시킬 수 있는 percolation threshold를 조절하는데 그 연구의 주안점이 맞춰져 있었다.⁸⁾ 이는 금속 나노와이어가 0.

가설 설정

이는 광학 투과도 측정 결과뿐만 아니라 Fig. 4(b)의 optical haze 측정결과와도 일치하고 있다. Fig.

제안 방법

본 고에서는 Ag나노와이어 기반의 도전성 잉크를 플렉서블한 투명 기판 위에 코팅 후 이러한 여분의 유기물을 O₂플라즈마를 이용하여 제거함으로써 Ag 나노와이어 기반 투명전극의 면저항과 광학적 특성을 최적화하였다.
Ag 나노와이어는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 기판위에 wet-based bar coating 법을 이용하여 도전성 필름을 형성하였다. 이때 Ag 나노와이어가 0.5 wt%가 함유된 Ag 나노와이어 도전성 ink는 de-ionized(DI) water와 anhydrous ethanol에 각각 60 : 25 :15의 비율로 희석되었으며, 그 후 플렉서블 PC 기판과의 접착력을 향상시키기 위하여 4 wt%의 aqueous cellulosic polymer(hydroxypropyl methylcellulose, HPMC) 가 첨가하여 coating solution을 제조하였다. 본격적인 Ag 나노와이어 코팅에 앞서 플렉서블 PC 기판의 표면의 친수성 확보를 위하여 bare PC 필름은 O₂ asher를 이용하여 O₂ asher챔버 내부의 압력이 0.
5 wt%가 함유된 Ag 나노와이어 도전성 ink는 de-ionized(DI) water와 anhydrous ethanol에 각각 60 : 25 :15의 비율로 희석되었으며, 그 후 플렉서블 PC 기판과의 접착력을 향상시키기 위하여 4 wt%의 aqueous cellulosic polymer(hydroxypropyl methylcellulose, HPMC) 가 첨가하여 coating solution을 제조하였다. 본격적인 Ag 나노와이어 코팅에 앞서 플렉서블 PC 기판의 표면의 친수성 확보를 위하여 bare PC 필름은 O₂ asher를 이용하여 O₂ asher챔버 내부의 압력이 0.7 torr로 조절되고 방전 전류가 20mA로 제어된 상태에서 약 10초간 친수성 표면처리를 진행하였다. 준비된 coating solution은 machine-controlled Meyer rod coating 법을 이용하여 플렉서블 PC 기판 위에 20 mm/sec의 속도로 코팅되었으며, 그 후 연속적으로 수분증발을 위하여 120 oC의 convection oven에서 5분간 dry process를 진행하였다.
준비된 coating solution은 machine-controlled Meyer rod coating 법을 이용하여 플렉서블 PC 기판 위에 20 mm/sec의 속도로 코팅되었으며, 그 후 연속적으로 수분증발을 위하여 120 oC의 convection oven에서 5분간 dry process를 진행하였다. 충분히 수분이 증발된 Ag 나노와이어 기반의 투명 전극 필름은 여분의 유기물 제거를 위하여 O₂ asher를 이용하여 표면처리를 진행하였다. 이때 각각의 샘플은 O₂/N₂가 각각 1 : 4의 비율로 섞인 건조 가스를 O₂ asher 챔버내에 주입된 상태에서 plasma 생성시 챔버 내부의 압력은 0.
O₂플라즈마 처리가 된 Ag 나노와이어 기반의 투명 전극 필름의 외형은 주사전자현미경(scanning electron microscope, SEM, Model: JEOL JSM-7500F)을 이용하여 관찰되었으며, 투명 전극 필름의 면저항과 광학적 특성은 각각 four-point probe surface resistivity meter(R-CHEK,Model: RC2175)와 haze meter(Nippon Denshoku Industries Co., NDH 7000)를 이용하여 측정하였다. 본 실험에서 보고된 면저항 및 광학적 특성 데이터 값은 A4 용지 사이즈로 PC 기판상에 제작된 Ag 나노와이어 기반의 투명 전극 필름에서 각각 서로 다른 20개의 부분에서 측정된 값의 평균값이 사용되었다.

대상 데이터

본 연구에서는 투명전극 필름의 제조에 있어 길이 약 20 µm 및 직경 35 nm를 가진 Ag 나노와이어(Aiden Co. Ltd. of Kore)가 이용되었다.
, NDH 7000)를 이용하여 측정하였다. 본 실험에서 보고된 면저항 및 광학적 특성 데이터 값은 A4 용지 사이즈로 PC 기판상에 제작된 Ag 나노와이어 기반의 투명 전극 필름에서 각각 서로 다른 20개의 부분에서 측정된 값의 평균값이 사용되었다.

이론/모형

of Kore)가 이용되었다. Ag 나노와이어는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 기판위에 wet-based bar coating 법을 이용하여 도전성 필름을 형성하였다. 이때 Ag 나노와이어가 0.
7 torr로 조절되고 방전 전류가 20mA로 제어된 상태에서 약 10초간 친수성 표면처리를 진행하였다. 준비된 coating solution은 machine-controlled Meyer rod coating 법을 이용하여 플렉서블 PC 기판 위에 20 mm/sec의 속도로 코팅되었으며, 그 후 연속적으로 수분증발을 위하여 120 oC의 convection oven에서 5분간 dry process를 진행하였다. 충분히 수분이 증발된 Ag 나노와이어 기반의 투명 전극 필름은 여분의 유기물 제거를 위하여 O₂ asher를 이용하여 표면처리를 진행하였다.

성능/효과

본 연구에서는 제조된 Ag 나노와이어 기반의 투명 전극 필름은 평균적으로 O₂플라즈마 처리가 이루어지지 않았을 경우, 면저항은 약 64 Ohm/sq를 가졌으며, 동시에 가시광선에 대한 광학적 투과도(transmittance)와 haze는 각각 91.2 % 및 1.44 % 임을 확인하였다. Fig.
44 % 임을 확인하였다. Fig. 1에서 보는 것과 같이, Ag 나노와이어 투명 전극 필름에 O₂플라즈마 표면 처리시 처리 시간 30초까지 지속적으로 투명 전극 필름의 면저항은 지속적으로 감소함을 확인할 수 있었다. 특히 30초간 O₂플라즈마 처리하였을 경우, Ag 나노와이어 투명 전극 필름의 면저항은 약 50 Ohm/sq로서 플라즈마 처리를 하지 않은 샘플에 비하여 약 22 %의 면저항 감소가 발생함을 확인하였다.
1에서 보는 것과 같이, Ag 나노와이어 투명 전극 필름에 O₂플라즈마 표면 처리시 처리 시간 30초까지 지속적으로 투명 전극 필름의 면저항은 지속적으로 감소함을 확인할 수 있었다. 특히 30초간 O₂플라즈마 처리하였을 경우, Ag 나노와이어 투명 전극 필름의 면저항은 약 50 Ohm/sq로서 플라즈마 처리를 하지 않은 샘플에 비하여 약 22 %의 면저항 감소가 발생함을 확인하였다. Fig.
7^o를 각각 나타내고 있음을 보여주었다. 본 접촉각 측정 결과는 O₂플라즈마 처리를 함으로서 Ag 나노선 투명전극 필름의 유기물이 제거되면서 친수성 표면으로 바뀌는 것을 시사하고 있다.^14-16) 상기와 같은 결과로부터 O₂플라즈마 처리를 통하여 Ag 나노와이어 코팅의 안정성 및 coating solution 내 Ag 나노와이어의 분산성 확보를 위하여 필수적인 HPMC를 효과적으로 제거할 수 있음이 확인되었다.
본 접촉각 측정 결과는 O₂플라즈마 처리를 함으로서 Ag 나노선 투명전극 필름의 유기물이 제거되면서 친수성 표면으로 바뀌는 것을 시사하고 있다.^14-16) 상기와 같은 결과로부터 O₂플라즈마 처리를 통하여 Ag 나노와이어 코팅의 안정성 및 coating solution 내 Ag 나노와이어의 분산성 확보를 위하여 필수적인 HPMC를 효과적으로 제거할 수 있음이 확인되었다.
플라즈마를 이용하여 제거함으로써 Ag나노와이어 기반 투명전극의 면저항을 최적화하고 광학적 특성을 최적화하였다. 특히 Ag 나노와이어 투명 전극 필름은 평균적으로 O₂플라즈마 처리가 이루어지지 않았을 경우보다 30초간 O₂플라즈마 처리를 하였을 경우 나노와이어간 contact사이에서 유기물이 제거됨에 따라 약 20 % 이상의 면저항 감소를 이룰 수 있었으며, 35초 이상부터는 면저항이 지속적으로 증가함을 확인할 수 있었다. 이는 Ag 나노와이어가 O₂플라즈마 처리에 의해 손상을 입으면서 나노와이어간 접촉의 개수가 줄어들면서 일어난 현상이다.
이는 Ag 나노와이어가 O₂플라즈마 처리에 의해 손상을 입으면서 나노와이어간 접촉의 개수가 줄어들면서 일어난 현상이다. Ag 나노와이어 투명 전극 필름의 광학 투과도와 optical haze는 플라즈마 노출시간에 대한 면저항 변화 경향과는 달리 90초까지 O₂플라즈마 처리할 경우 지속적으로 향상되는 것을 확인할 수 있었으며, 이는 Ag 나노와이어가 위치한 부분 외 PC 기판 표면에 형성되어 있던 HPMC 유기물 막이 O₂플라즈마에 의해 제거되면서 일어난 현상으로 사료된다. 본 연구를 통하여 Ag 나노와이어 투명 전극의 전기적, 광학적 성능을 최적화시키기 위하여 플라즈마 표면처리 시간을 제어하는 것이 중요한 인자임을 확인할 수 있었다.
Ag 나노와이어 투명 전극 필름의 광학 투과도와 optical haze는 플라즈마 노출시간에 대한 면저항 변화 경향과는 달리 90초까지 O₂플라즈마 처리할 경우 지속적으로 향상되는 것을 확인할 수 있었으며, 이는 Ag 나노와이어가 위치한 부분 외 PC 기판 표면에 형성되어 있던 HPMC 유기물 막이 O₂플라즈마에 의해 제거되면서 일어난 현상으로 사료된다. 본 연구를 통하여 Ag 나노와이어 투명 전극의 전기적, 광학적 성능을 최적화시키기 위하여 플라즈마 표면처리 시간을 제어하는 것이 중요한 인자임을 확인할 수 있었다.
2(a)와 (b)에서와 같이 Ag 나노와이어 간 contact에 의하여 발생하게 되는데 상기와 같은 면저항의 감소는 이러한 network 형성 시 나노와이어 사이의 보다 강한 contact이 이루어져서라고 유추되며, 그 원인에 대해서는 유기물 감소등에 대한 추후적인 분석이 필요하다. 또한 Fig. 1에서 O₂플라즈마 시간이 35초가 되면서 급격히 Ag 나노와이어 투명 전극 필름의 면저항이 증가하는 것을 확인할 수 있다. Fig.
4의 (a)는 O₂플라즈마 처리 시간에 따른 가시광선에 대한 Ag 나노와이어 투명전극의 광학 투과도를 보여주고 있다. O₂플라즈마를 하지 않은 샘플의 광학 투과도가 91.2 %인데 반하여, 최저 면저항을 보인 30초간 O₂플라즈마 처리를 한 샘플의 경우 91.6 %로서 약 0.4 %의 미미한 증가가 있음을 확인하였다. 이는 O₂플라즈마에 의하여 PC 기판 표면에 Ag 나노와이어 coating solution 내에 함유되어 같이 코팅된 HPMC 등이 제거되면서 그 광학적 특성이 향상된 것으로 사료된다.

후속연구

일반적으로 Ag 나노선 투명전극에서 전기적 전도는 Fig. 2(a)와 (b)에서와 같이 Ag 나노와이어 간 contact에 의하여 발생하게 되는데 상기와 같은 면저항의 감소는 이러한 network 형성 시 나노와이어 사이의 보다 강한 contact이 이루어져서라고 유추되며, 그 원인에 대해서는 유기물 감소등에 대한 추후적인 분석이 필요하다. 또한 Fig.

질의응답

핵심어	질문	논문에서 추출한 답변
	차세대 디스플레이로 예상되는 플렉서블 디스플레이에 관련 소재 및 소자 관련된 다양한 연구가 진행되고 있는 배경은?	최근 전자기기의 소형화 및 웨어러블 디바이스(wearable device)화가 가속화되면서 차세대 디스플레이로 예상되는 플렉서블 디스플레이(flexible display)에 관련 소재 및 소자 관련된 다양한 연구가 진행되고 있다. 플렉서블 디스플레이의 개발에 있어 가장 큰 난관은 유연한 투명전극(transparent conducting electrodes, TCEs) 소재를 발굴하는 일이라고 할 수 있을 것이다.
	ITO(Indium tin oxide) 기반의 투명 전극은 어떤 단점을 가지고 있는가?	플렉서블 디스플레이의 개발에 있어 가장 큰 난관은 유연한 투명전극(transparent conducting electrodes, TCEs) 소재를 발굴하는 일이라고 할 수 있을 것이다. 현재 일반적으로 사용되고 있는 ITO(Indium tin oxide) 기반의 투명 전극은 뛰어난 전기 전도성과 광학적 투과도를 보이고 있지만, 지속적인 bending시 일어나는 cracking 등으로 인하여 기계적인 강도가 매우 취약하다는 단점을 가지고 있다.1) 이를 극복하기 위하여 최근 Graphene 이나 CNT 등의 탄소 소재,2-4), Ag 나노와이어나 Cu 나노와이어와 같은 금속 나노와이어,5-8) PEDOT:PSS와 같은 전도성 폴리머,9) 광학적 특성이 우수한 산화물 나노시트 소재10,11) 등을 이용한 투명전극 응용 연구가 급속히 진행되고 있다.
	ITO(Indium tin oxide) 기반의 투명 전극의 단점을 극복하기 위하여 어떤 연구가 진행되고 있는가?	현재 일반적으로 사용되고 있는 ITO(Indium tin oxide) 기반의 투명 전극은 뛰어난 전기 전도성과 광학적 투과도를 보이고 있지만, 지속적인 bending시 일어나는 cracking 등으로 인하여 기계적인 강도가 매우 취약하다는 단점을 가지고 있다.1) 이를 극복하기 위하여 최근 Graphene 이나 CNT 등의 탄소 소재,2-4), Ag 나노와이어나 Cu 나노와이어와 같은 금속 나노와이어,5-8) PEDOT:PSS와 같은 전도성 폴리머,9) 광학적 특성이 우수한 산화물 나노시트 소재10,11) 등을 이용한 투명전극 응용 연구가 급속히 진행되고 있다. 특히 금속 나노와이어는 화학적 합성법을 기반으로 대량으로 합성이 가능하고 기존의 roll-to-roll 공정에 바로 적용이 가능하다는 공정상의 장점을 가지는 동시에 금속 나노와이어 특유의 성질로 인하여 전기적 전도도가 뛰어난 동시에 percolation density가 낮아 광학적 투과도가 좋다는 장점을 가지고 있다.

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표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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