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NTIS 바로가기E<SUP>2</SUP>M : Electrical & Electronic materials = 전기 전자와 첨단 소재, v.33 no.3, 2020년, pp.31 - 41
이연숙 (한국산업기술시험원)
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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반도체/디스플레이 장비에 사용되는 부품들의 내플라즈마성이 우수해야하는 이유는? | 반도체/디스플레이 산업에서 경쟁력 제고를 위해 선폭의 미세화, 고집적화 등을 지속적으로 진행하고 있으며, 이를 구현하기 위해 박막 증착 기술(CVD 등), 식각(에칭)기술 등 제조공정장비의 기술 향상과 함께 공정장비에 사용되는 소재의 뒷받침이 반드시 필요하다. 반도체/디스플레이 장비에 사용되는 부품들은 다양한 플라즈마를 활용하기 때문에 이들 장비에 사용되는 부품들은 내플라즈마성이 우수한 재료들을 사용해야 한다. 내플라즈마성이 우수한 재료로 현재 반도체/디스플레이 공정장비용 산화알루미늄(Al2O3), 산화이트륨(Y2O3), 산불화이트륨(YOF) 순으로 소재가 발전하고 있으나, 현재는 고순도 산화이트륨이 가장 많이 사용되고 있다 [1-3]. | |
산화이트륨은 어떠한 분야에서 사용되고 있는가? | 특히 산화이트륨은 2,325℃ 온도까지 단사정 구조로서 상전이가 없기 때문에 1,800℃ 이상의 고온까지 매우 우수한 화학적 안정성과 내열성을 가지고 있는 대표적인 세라믹 소재로 알려져 있다 [4-8]. 산화이트륨은 이러한 특성으로 고온용 내식성 기판 재료, 용융금속의 네트 캐스팅을 위한 노즐재 료, 반응성이 매우 높은 금속의 용융을 위한 용기재료 등 다양한 분야에 널리 사용되어 왔다. | |
AlN에 산화이트륨을 첨가할 시 얻을 수 있는 이점은? | 현재 산화이트륨은 AlN, SiC 등의 액상소결 조제, ZrO2 안정화 물질 및 내플라즈마성이 요구되는 반도체/디스플레이 장비 등에 주로 사용되고 있다. 액상소결제조로 많이 사용되는 산화이트륨은 Al2O3와 AlN에 첨가 시 yttrium aluminates 액상을 형성하여 소결온도를 낮추고 고밀도의 소결체를 얻게 한다. 특히 AlN에 첨가시 제 2상의 생성으로 AlN 내의 산소 원자가 제거되기 때문에 열전도도를 향상시키는 것으로 보고되고 있다 [9,10]. |
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