[논문]인공면역체계를 이용한 플라즈마 증착 장비의 유량조절기 오류 검출 실험 연구

유영민; 정지윤; 조나현; 박소은; 홍상진

[국내논문] 인공면역체계를 이용한 플라즈마 증착 장비의 유량조절기 오류 검출 실험 연구
An Algorithm Study to Detect Mass Flow Controller Error in Plasma Deposition Equipment Using Artificial Immune System 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.20 no.4, 2021년, pp.161 - 166

유영민 (명지대학교 공과대학 전자공학과) , 정지윤 (명지대학교 공과대학 전자공학과) , 조나현 (명지대학교 공과대학 전자공학과) , 박소은 (명지대학교 공과대학 산업경영공학과) , 홍상진 (명지대학교 공과대학 전자공학과)

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Errors in the semiconductor process are generated by a change in the state of the equipment, and errors usually arise when the state of the equipment changes or when parts that make up the equipment have flaws. In this investigation, we anticipated that aging of the mass flow controller in the plasma enhanced chemical vapor deposition SiO2 thin film deposition method caused a minute flow rate shift. In seven cases, fourier transformation infrared film quality analysis of the deposited thin film was used to characterize normal and pathological processes. The plasma condition was monitored using optical emission spectrometry data as the flow rate changed during the procedure. Preprocessing was used to apply the collected OES data to the artificial immune system algorithm, which was then used to process diagnosis. Through comparisons between datasets, the learning algorithm compared classification accuracy and improved the method. It has been confirmed that data characterized as a normal process and abnormal processes with differing flow rates may be discriminated by themselves using the artificial immune system data mining method.

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참고문헌 (9)

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